Occasion BUHLER / LEYBOLD OPTICS UCS 40 #9363015 à vendre en France

BUHLER / LEYBOLD OPTICS UCS 40
ID: 9363015
Coater.
BUHLER/LEYBOLD OPTICS UCS 40 est un équipement de photorésistance destiné à l'industrie des semi-conducteurs. Ce système utilise des techniques de photolithographie pour créer des motifs sur un substrat, avec un modèle SEMI Standard BSIM3v3 haute résolution pour la précision. L'unité est équipée d'une unité d'exposition avancée, d'étages électromécaniques ultra-précis, et de lampes Xenon Lightsovine. En phase d'exposition, le substrat supérieur est exposé à un motif répliqué sur le masque. Le masque est éclairé par un laser, qui est modulé à l'intensité appropriée et focalisé sur le substrat. L'unité d'exposition assure que l'intensité maximale du laser est atteinte, et que l'exposition est uniforme dans tout le substrat. Après exposition, l'image est transférée du masque à une résine à base de silice, qui est répartie sur le substrat avant d'entrer dans l'étape de développement. L'étape de développement est conçue pour augmenter ou réduire des zones spécifiques de résistance exposée selon le motif du masque. Pour ce faire, on utilise des plaquettes qui aident à maintenir un équilibre homogène de résistance dans les zones qui doivent être exposées ou développées. La précision du développement est encore accrue par l'utilisation d'étages électromécaniques, permettant un fonctionnement précis au niveau du micron. L'étape finale du procédé de photorésist est l'étape d'élimination de photorésist. Cette étape utilise une solution à base d'acide pour dissoudre toute résistance exposée ou développée. La température ambiante est soigneusement surveillée pour maintenir une vitesse de réaction optimale, ce qui permet d'obtenir des résultats de la plus haute qualité. BUHLER UCS 40 est une machine de photolithographie fiable, testée par des professionnels de l'industrie pour fournir les résultats les plus précis et de haute qualité. L'outil est disponible auprès de divers fournisseurs, et sa conception et ses caractéristiques le rendent facilement adaptable à tout processus de production de semi-conducteurs.
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