Occasion C&D SEMI 2-T:I\8838\8844\88SMC\8836\I #9177167 à vendre en France

C&D SEMI 2-T : I\8838\8844\88SMC\8836\I « photoresist » est un système d'application de revêtement automatisé utilisé dans la production de composants électroniques de haute précision. Il utilise une variété de technologies et de caractéristiques distinctives afin d'assurer des revêtements uniformes et de haute qualité sur plusieurs couches et sur une large gamme de surfaces. L'unité utilise une technique avancée de dépôt assisté par faisceau d'ions (IBAD) pour créer un revêtement uniforme et cohérent. Utilisant un faisceau d'ions lourds qui est ciblé aux extrémités spéculaires des composants dans la chambre de processus, la machine crée une grille de maillage d'atomes qui fournit une plate-forme pour des processus de revêtement uniformes avec un contrôle plus fin que d'autres méthodes. La technique IBAD crée également un lien plus fort entre le revêtement et le substrat - ce qui est essentiel pour assurer le succès du produit pendant la fabrication. L'outil utilise également un processus de rinçage par vote-spin, qui est conçu pour s'assurer que le revêtement est réparti uniformément sur l'ensemble de la carte. Le procédé de vote par spin est parfaitement adapté à une utilisation avec photorésist en raison de son contrôle précis de la vitesse de dépôt, ce qui permet un revêtement le plus cohérent et uniforme possible. C&D SEMI dispose également d'une chambre de simulation de particules à sources multiples qui est utilisée pour créer des reproductions très précises au niveau des plaquettes d'une conception. La chambre de simulation des particules utilise un modèle avancé de suivi des particules pour simuler avec précision une grande variété de motifs, de formes et d'angles. Cela permet la production de composants très précis avec une meilleure précision de répétition et une plus grande uniformité du produit. De plus, l'équipement intègre l'utilisation de procédés automatisés de revêtement et de post-production tels que la gravure par pulvérisation, la cuisson après exposition et le desmear. Le système automatisé consiste en un bain acide, une chambre de solvant et une chambre de refusion thermique qui peuvent être utilisés pour finir rapidement et avec précision les composants. Ces procédés améliorent la répétabilité et l'uniformité et réduisent le temps nécessaire au développement des produits. C&D SEMI 2-T : I\8838\8844\88SMC\8836\I est conçu pour fournir le plus haut niveau possible de précision et d'uniformité lors de l'application de revêtements de résines photosensibles. Avec sa technologie IBAD de pointe, son procédé de rinçage par vote et ses processus automatisés de post-production, cette photorésist est un élément essentiel du processus de production de toute organisation.