Occasion C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I #9177294 à vendre en France

C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I est un équipement de photorésistance adaptable conçu pour le traitement de matériaux de précision qui nécessitent des résultats précis et reproductibles. Le système est conçu pour une utilisation avec une variété de matériaux photorésistants à travers plusieurs étapes de traitement, y compris le dépôt en couches minces, la photolithographie, la gravure et l'implantation ionique. L'unité comprend deux pistes, l'une pour la photolithographie et l'autre pour la gravure et l'implantation ionique, chacune pouvant être configurée pour accueillir un large éventail de substrats et de matériaux. La piste de photolithographie est compatible avec les photorésistances positives et négatives standard, et diverses techniques de résistance pré-exposées et post-exposées, permettant à l'utilisateur d'obtenir une précision de point d'axe dans l'imagerie de structures avec des tailles de caractéristiques aussi petites que 6,5 microns. La piste d'implantation gravure/ion est capable de traiter des matériaux avec une précision sous micron, avec la capacité de contrôler avec précision la vitesse de gravure et l'implantation ionique directionnelle. La machine peut être configurée avec des composants et accessoires supplémentaires, tels qu'une chambre de pression in situ pour améliorer les performances de gravure, ainsi qu'un générateur de plasma pour un contrôle supplémentaire des paramètres de gravure. Combinant des technologies avancées de photolithographie et de gravure, C&D SEMI 2-TRK:8626/36/36/I fournit un processus fiable et reproductible pour le traitement des matériaux submicroniques profonds. Sa gamme d'application va de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs aux systèmes optiques de précision.