Occasion C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I #9133837 à vendre en France

C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I est un équipement de traitement de photorésistance de qualité industrielle spécialement conçu pour des environnements de production de semi-conducteurs exigeants. La conception du système offre un traitement fiable et uniforme de 8 626 plaquettes par tour et des dimensions de plaquettes de 36 pouces. L'unité SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I de C&D comprend deux (2) chambres de traitement indépendantes dotées chacune de son propre panneau de commande, d'une machine à vide et de capacités de production photolithographique. La principale caractéristique de l'outil photorésist est sa capacité à générer des résultats photorésistants uniformes et reproductibles pour toutes les plaquettes traitées. Pour ce faire, deux systèmes d'exposition photolithographique indépendants peuvent générer le même motif sur deux plaquettes adjacentes ou non adjacentes. Chaque chambre peut être optimisée individuellement pour le traitement de la photorésist, minimisant les temps d'arrêt et le coût. En outre, la chambre dispose d'optimisation automatisée des processus grâce à un logiciel qui permet la production répétable de plaquettes avec un temps d'arrêt minimal. Cette optimisation automatisée des procédés réduit encore le coût et le temps consacré aux opérations de production, tout en augmentant le rendement des plaquettes. C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I dispose d'une plage de température allant jusqu'à 300 ° C et d'un modèle sous vide pouvant atteindre 10-7 torr. L'équipement est équipé d'un système d'obturation programmable pour assurer une exposition contrôlée au masque. Cette fonctionnalité permet une exposition unique ou par lots de plusieurs plaquettes dans le même temps, réduisant encore le temps de traitement. L'unité utilise également la technologie du banc propre de classe 100, qui comprend une machine embarquée de surveillance des particules. Cela permet un contrôle optimal des niveaux de particules, ainsi qu'une surveillance de la contamination, pour assurer un environnement de travail propre. L'outil photorésist C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I offre un ensemble complet de caractéristiques pour fournir une production photolithographique de pointe pour les environnements de production de semi-conducteurs. L'actif offre un large éventail de températures, de pressions et un contrôle précis des temps d'exposition photolithiques. L'optimisation logicielle des processus permet de reproduire les processus de production avec un minimum de temps d'arrêt et de coût. La technologie de banc propre du modèle garantit en outre que l'environnement demeure exempt de contaminants. Grâce à ce matériel de production photolithographique puissant et fiable, les fabricants peuvent réduire les coûts et le temps nécessaire pour produire des plaquettes de haute qualité.