Occasion C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK #9205718 à vendre en France

C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK est un système de photolithographie polyvalent, facile à utiliser et robuste pour la production de masques, de plaquettes, de moulures et de cartes de circuits imprimés très précis. Il est spécialement conçu pour l'avancement de l'industrie des semi-conducteurs en offrant un meilleur rapport coût-efficacité, précision et une grande variété de procédés photographiques pour des résultats de fabrication précis. C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK photoresist unit est spécialement conçu pour l'industrie des semi-conducteurs pour produire des masques et des plaquettes de haute précision. Il contient deux pistes pour les étapes de masquage et de balisage d'une production. La première piste utilise cinq images - le cadre supérieur, une exposition arrière, un masque de diffusion, une plaque de transfert de motifs et une lame de verre chargée d'eau - tandis que la seconde piste comprend cinq autres images - le cadre supérieur, une exposition arrière, un masque de contamination, une plaque de transfert de motifs et une lame de verre sèche. Le cadre supérieur est utilisé pour exposer la lame de verre sec sur laquelle le masque photographique est dessiné. L'exposition arrière est utilisée avec le masque de diffusion pour assurer la profondeur de champ tout en présentant le motif du masque sur la lame de verre. Le masque de contamination est utilisé pour éradiquer les produits chimiques présents sur la lame de verre. La plaque de transfert de motifs est utilisée pour produire une image corrigée optiquement sur la lame de verre tandis que la lame de verre chargée d'eau est utilisée pour garantir une adhérence parfaite pour le masque photographique et l'impression du motif sur la carte. La photorésist C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK est équipée d'une optique de précision et d'outils d'alignement guidés par laser. Sa construction de premier ordre le rend fiable et capable d'obtenir des résultats à haute résolution. Grâce à l'amélioration de la clarté de l'impression et à l'excellente adhérence de toutes les couches, c'est l'outil de photolithographie le plus efficace et le plus économique pour la production de masques, plaquettes, moulures et cartes de circuits imprimés très précis. C'est également le choix idéal pour les procédés de photolithographie avancés, y compris l'électronique à couches minces. L'actif photorésist C&D SEMI I/8837/37/CP/I 2 TRK offre une cohérence de résolution supérieure en incorporant un schéma opérationnel uniforme. Il assure également une plus grande précision d'image avec ses outils d'alignement avancés qui permettent de petits réglages même après de longues heures d'utilisation. En outre, il garantit des procédés de fabrication robustes avec sa fonction anti-contamination qui évite les irrégularités même avec des expositions répétées. Le modèle offre ainsi les meilleurs masques, plaquettes, moulures et cartes de circuits imprimés pour la production d'appareils électroniques modernes.