Occasion C&D SEMI P-8000 #293679284 à vendre en France

C&D SEMI P-8000 Photoresist Equipment est un système de photolithographie haute performance entièrement automatisé utilisé pour la production de modèles sophistiqués à l'échelle du micromètre dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'unité comprend un sous-système d'imagerie optique, un sous-système de revêtement en résine et un sous-système d'alignement et de lithographie. Le sous-système d'imagerie optique comprend une source lumineuse, des lentilles, des miroirs multicouches et l'électronique associée. Il est conçu pour produire des séquences de champ de lumière dynamique optimisées avec une résolution < 1µm afin de créer des caractéristiques précises à l'échelle du micromètre dans le film modélisé. Il dispose également d'un éclairage LED qui réduit la consommation d'énergie requise et assure des conditions de processus stables. Le sous-système de revêtement en résine comprend un poste de revêtement sous vide, une cassette en résine, une buse en résine et un porte-substrat. Il utilise une approche unique pour prévenir les défauts liés aux particules, en fournissant un fonctionnement lisse de la buse qui est découplé du support imprimé. Cela réduit également la consommation de matière requise, puisque seule la quantité de résistance nécessaire est appliquée. Enfin, le sous-système d'alignement et de lithographie comprend un étage motorisé, une machine de poursuite et un contrôleur logiciel. Il est chargé d'optimiser le positionnement de la plaquette pour maximiser la précision pendant le processus de dépôt de film de résistance. Le contrôleur logiciel ajuste également les paramètres d'exposition de la source lumineuse, pour contrôler avec précision les caractéristiques créées sur la surface peinte. Dans l'ensemble, C&D SEMI P8000 Photoresist tool est un outil puissant et de haute précision pour la création de motifs complexes dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Son intégration de haut niveau des composants garantit un fonctionnement fiable et des résultats reproductibles, et permet aux utilisateurs de créer des fonctionnalités de façon rentable jusqu'à 1 µm.