Occasion C&D SEMI P-8000 #9153359 à vendre en France

Le CD SEMI C&D SEMI P-8000 Photoresist Equipment est un système de photolithographie haute performance pour la fabrication de structures avancées sur des substrats semi-conducteurs. L'unité est capable de déposer et d'enlever des couches minces de résine photosensible très précises sur des plaquettes de silicium, offrant une excellente sélectivité de gravure et une compatibilité avec une large gamme de substrats. Il est conçu pour une précision et un débit optimaux, avec la capacité de traiter jusqu'à 53 plaquettes par heure, avec une précision de calcul de +/- 1,5 μ m. La machine est constituée d'une chambre à vide, d'un outil d'optique pas à pas classique, d'un bol à quartz, d'un porte-substrat et d'un étage de substrat. L'actif de l'optique de photolithographie comprend un séparateur de faisceau et une lentille de condenseur qui sont conçus pour fournir un éclairage uniforme du substrat. Le bol de quartz est utilisé pour loger et maintenir la résine photosensible avant son dépôt sur le substrat. Le porte-substrat est équipé d'un dispositif de chauffage qui permet de contrôler la température du substrat lors du dépôt de résine photosensible. L'étage de substrat, piloté par un moteur pas à pas à haute résolution, permet un positionnement précis du substrat lors du processus de photolithographie. C&D SEMI P8000 est équipé d'un laser à diode annulaire monomode (SMADL) qui est utilisé pour contrôler avec précision les longueurs d'onde de la lumière utilisée pour exposer la résine photosensible. Le laser SMADL est spécialement conçu pour garantir la plus grande précision et la plus grande qualité de la photolithographie. De plus, la conception à l'état solide du P 8000 lui permet de résister aux rigueurs d'environnements industriels difficiles. Le modèle est équipé d'une variété de caractéristiques qui peuvent aider à améliorer les performances et à réduire les coûts de production. Par exemple, l'équipement est équipé d'un outil de coupe automatique de film qui permet de sélectionner avec précision la longueur et la position du film, optimisant ainsi l'utilisation du substrat. De plus, le système utilise une unité avancée de contrôle de température de traitement de la photorésistance, ce qui permet d'assurer des performances constantes. Enfin, P8000 est compatible avec une large gamme de substrats, y compris l'arséniure de gallium, le carbure de silicium et le diamant. En résumé, le CD SEMI C&D SEMI P 8000 Photoresist Machine est un outil de photolithographie robuste et efficace pour la fabrication de structures évoluées à l'échelle de microns. Il offre une excellente précision et un excellent débit, avec une compatibilité pour une large gamme de substrats, et est équipé de fonctionnalités avancées pour aider à réduire les coûts de production et améliorer les performances.