Occasion C&D SEMI SVG 86xx #9132896 à vendre en France

C&D SEMI SVG 86xx
Fabricant
C&D SEMI
Modèle
SVG 86xx
ID: 9132896
Auto coaters 2009 vintage.
C&D SEMI SVG 86xx est un équipement avancé de photorésistance conçu pour fabriquer des photomasques pour la fabrication de semi-conducteurs. C'est un système automatisé entièrement intégré, qui permet aux clients de fabriquer rapidement des photomasques de haute précision avec des résultats reproductibles et fiables. L'unité est capable de modeler et de résoudre des fonctions jusqu'à 0,15 μ m, permettant aux clients de créer des cas complexes avec des fonctionnalités précises. De plus, sa machine de photo-résistance avancée lui permet de mettre en place une variété de formes de motifs et de créer des motifs avec une grande précision. Il utilise également diverses fonctionnalités avancées telles que des tailles de motifs variables, des écrous linéaires, des chanfreins et des écrous photorésistants pour le découpage des coins. SVG 86xx dispose d'une large gamme de capacités, telles que les sources lumineuses à LED, l'imagerie multi-longueurs d'onde et la lithographie de faisceaux de particules PMS. Il offre également un support pour l'outil d'obturation, un rapport d'aspect élevé résister au développement, et des expositions latérales. Qui plus est, il dispose de l'actif auto-focus PATRA, qui fournit une capacité d'autofocus répétable et précise. En outre, C&D SEMI SVG 86xx dispose également d'une gamme d'options d'imagerie avancées pour l'enregistrement de motifs et la fabrication de masques photo. Ces options comprennent le traitement linéaire, le traitement matriciel, l'imagerie simultanée et le réglage fin du développement des photorésistances. En outre, son modèle de projection de motif intégré peut être facilement configuré pour répondre à une gamme d'applications. L'équipement SVG 86xx fournit une plate-forme hautement personnalisable qui convient à un large éventail d'exigences d'application. De la conception de PCB aux circuits intégrés, ce système avancé de fabrication de photomasques est adapté à une variété d'applications, telles que le traitement en couches minces, l'électronique de puissance, les biopuces et l'électronique automobile.
Il n'y a pas encore de critiques