Occasion C&D / SSI P9000 #9390291 à vendre en France
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ID: 9390291
Coater / Developer system
(3) JULABO F32 Recirculating chillers
Resist cabinet
Chemical cabinet
Resist waste pump
JustRite waste drum cabinet
Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 3-Phase.
C & D/SSI P9000 est un équipement de photorésistance conçu pour créer des masques de lithographie pour les applications de puces semi-conductrices. Cela implique l'utilisation de produits chimiques photosensibles qui sont activés lorsqu'ils sont exposés à la lumière. Le système consiste en un outil d'exposition automatisé de pointe qui a un fonctionnement hors ligne et peut enregistrer différents types de travaux. D'autres composants de l'unité comprennent un chargeur intelligent, un dispositif de revêtement de résiste (pulvérisation, trempage, spin), une table d'alignement, et un durcisseur. Tous ces composants se réunissent pour former une machine photorésistante intégrée. C&D P9000 dispose d'un outil de projection haute résolution avec un champ de vision impressionnant et une vitesse d'exposition. Cela permet une génération de masque de haute précision, ce qui le rend parfait pour les applications de puces semi-conductrices. L'actif de projection est conçu pour être facile à utiliser, permettant aux utilisateurs de faire des ajustements rapides lorsque nécessaire. Le modèle de revêtement est conçu pour être rapide et fiable, fournissant des matériaux de résistance uniformément répartis. La table d'alignement permet d'assurer un positionnement précis et un repositionnement rapide, ce qui signifie que l'équipement peut être utilisé en toute confiance. Un durcisseur intégré fournit un processus de durcissement automatisé et uniforme, qui assure la fiabilité et la durabilité du masque. Dans l'ensemble, SSI P9000 est un système photorésist complet et fiable. Il est bien adapté pour créer des masques de lithographie pour les besoins de production à grande et à petite échelle. Les composants automatisés permettent une mise en place, un réglage et une terminaison rapides, ce qui signifie qu'ils peuvent être utilisés pour produire rapidement des masques avec une précision et une fiabilité élevées.
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