Occasion CALI-TECH CT-608D #9252347 à vendre en France

CALI-TECH CT-608D est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement avancé de la lithographie UV. Ce système est utilisé pour le dépôt et le développement de matériaux avancés en couches minces afin de créer des circuits et des dispositifs de haute performance avec des fonctionnalités plus petites. CT-608D est conçu pour fournir un processus de photolithographie haute résolution qui convient à la fois pour la recherche et les applications industrielles. Ses composants de base comprennent une unité d'exposition, une machine de développement, un outil de traitement post-développement et un actif automatisé pour la manutention des plaquettes. Le modèle d'exposition se compose d'un réseau de diodes électroluminescentes (LED) intense UV grand format avec une gamme de longueurs d'onde de 365nm à 395nm. La plage de longueurs d'onde permet la flexibilité lors de la sélection des couches de photorésistance ainsi que la mise en œuvre de techniques d'exposition multiple. L'équipement de développement dispose d'un système de développement humide à double étage, à grande vitesse, qui est capable d'effectuer un développement de photo-résistance tout en maintenant la température de la photo-résistance en dessous d'un certain niveau. Ceci est particulièrement important pour les procédés de photorésistance ultra-minces, où la température doit être inférieure à un certain seuil pour éviter d'endommager la photorésistance. L'unité post-développement se compose d'un module spin-rinçage-sec. Il est utilisé pour le rinçage de la résine photosensible et son séchage avant traitement ultérieur. La machine automatisée de manutention des plaquettes fournit un flux de travail hautement automatisé et peut traiter jusqu'à 30 plaquettes à la fois. Il est entièrement compatible avec les robots avancés de transfert de plaquettes. La performance de CALI-TECH CT-608D a été prouvée dans divers environnements de laboratoire et industriels. Il est capable de manipuler des couches photo-résistantes ultra-minces avec une taille minimale de 2 microns. Il est très fiable et efficace et est idéal pour les processus de production dans l'industrie de la lithographie avancée.