Occasion CARL ZEISS ZBA 21 #9208417 à vendre en France

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Fabricant
CARL ZEISS
Modèle
ZBA 21
ID: 9208417
Taille de la plaquette: 6"
Electron beam lithography system, 6" Includes: Variable shaped system Shot size: 100×100 nm² - 6.3×6.3 µm² Maximal substrate: 7" Square Electron energy: 20 keV Manuals Spare parts Micro components : Microelectronics Reticles Grids Resolution target Micro lens Fresnel lens Diffractive optical elements Computer generated holograms ~1990 vintage.
L'équipement de photorésistance CARL ZEISS ZBA 21 est un système de résistance avancé avec une profondeur de focalisation leader dans l'industrie pour l'imagerie de précision. Cette unité optimise une large gamme d'applications de lithographie des substrats avancés aux applications spécialisées et est compatible avec certaines longueurs d'onde d'exposition. Il dispose d'une machine de vision automatisée basée sur la technologie de vision par ordinateur avec une caméra CCD qui le rend hautement adapté à la R&D et à la fabrication. Cette fonctionnalité permet un contrôle d'alignement de haute précision et une optimisation automatique de la focalisation. En outre, le logiciel est capable d'ajuster intelligemment le type de substrat et de résister, l'épaisseur de couche, et d'autres caractéristiques qui peuvent affecter les performances de l'outil. ZBA 21 a une vitesse de processus allant jusqu'à 650 wafers par heure, avec une précision répétée de 3 µm dans la direction XY et une capacité de pas fin de 15 µm sur des wafers de 6 ". Sa gamme de longueurs d'onde d'exposition est de 157nm à 400nm, ce qui optimise encore l'actif pour l'amélioration des performances des appareils, l'enregistrement de superposition et d'autres exigences de production. De plus, le modèle photorésist offre une meilleure uniformité et un meilleur contrôle de la largeur de ligne grâce à ses capacités technologiques avancées, comme la fonction spectre accordable qui permet aux utilisateurs de choisir et d'ajuster la longueur d'onde d'exposition appropriée à leurs besoins spécifiques. Sa technique d'imagerie dynamique permet également aux utilisateurs d'optimiser les modes d'imagerie des profondeurs profondes aux basses profondeurs. CARL ZEISS ZBA 21 combine une technologie d'imagerie de haute précision et des fonctionnalités automatisées pour fournir aux utilisateurs des performances de photolithographie supérieures avec des fonctionnalités ciblées. Sa conception d'interface logicielle, son analyse de données et son autodiagnostic permettent aux utilisateurs de rationaliser leur flux de travail et de prendre des décisions en toute confiance. Cela en fait un excellent choix pour un large éventail d'engagements.
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