Occasion CEE 150CB #9147039 à vendre en France

CEE 150CB est un équipement de photomasque de haute qualité conçu pour produire des structures de microphotolithographie de haute qualité. Il s'agit d'un système en deux parties constitué d'une émulsion de photorésist et d'une émulsion de photorésist sensible à la lumière. L'émulsion photorésist contient un mélange de solvants, additifs, liants et composés photoactifs (PAC). L'émulsion photosensible est composée de quatre matériaux photosensibles différents. Exposés à la lumière, ces matériaux réagissent avec le PAC et forment une couche de photorésist sur le dessus du substrat. La couche de résine photosensible sert de masque au processus de photolithographie. Après l'exposition, une structure gravée est créée dans la couche de photorésist à l'aide d'une machine de photolithographie. La couche de résine photosensible est éliminée avec un solvant, ne laissant derrière elle que les caractéristiques gravées de la structure désirée. L'émulsion photosensible de 150CB offre une grande sensibilité, une excellente adhérence et une résolution exceptionnelle pendant le processus de photolithographie. Cela rend l'unité adaptée à une variété d'applications photolithographiques, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la communication par fibres optiques et les microcapteurs à couches minces. La préparation de la couche de photorésist est également facilitée par l'émulsion de haute qualité de la machine CEE 150CB, car la couche de photorésist est très uniforme et exempte de défauts. Cela maintient le mécanisme de gravure propre, assurant des résultats de haute qualité. Enfin, l'émulsion photosensible très sensible de 150CB outil assure également un faible coût de propriété, car seulement une faible quantité de temps d'exposition et de photorésist sont nécessaires pour l'ensemble du processus de photolithographie. Cela le rend idéal pour les applications à petite échelle, où le budget est une considération importante. Dans l'ensemble, CEE 150CB est un actif photomasque fiable qui offre des résultats de haute qualité à un prix abordable. Il convient à une variété de procédés de photolithographie, fournissant une solution polyvalente pour les structures microphotolithographiques.