Occasion CHEMALUX 100 #9231353 à vendre en France

CHEMALUX 100 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour produire des motifs haute définition avec une précision micron. Le système combine les performances de photorésist positif avec des chimiographies compatibles avec une large gamme d'imagesetters, d'écriveurs directs laser et de scanners à faisceau d'électrons. Comme les étapes de traitement sont simplifiées, conviviales et respectueuses de l'environnement, de tels systèmes de résistance sont un matériau privilégié pour le développement de motifs à haute résolution utilisés dans diverses applications électroniques. 100 est une unité photorésist positive qui consiste en des solutions photosensibles de résist, de développeur et de stripper. La résistance photosensible est un matériau sensible à la lumière composé d'un mélange de produits chimiques en solution qui, lorsqu'ils sont exposés à la lumière, forment un matériau polymérique insoluble qui sert de couche protectrice, empêchant toute nouvelle gravure. Le révélateur est une solution basique solide qui dissout la couche photosensible exposée, tandis que le décapant est une solution non solvant qui élimine la couche photosensible non exposée. La machine a été conçue avec plusieurs fonctionnalités avancées qui permettent d'améliorer les performances, la précision et l'efficacité dans le processus de balisage. Tout d'abord, la résistance photosensible de l'outil présente un faible taux de dissolution qui reste stable au cours du processus de gravure, ce qui conduit à une réplication précise des résidus même lorsque des températures élevées sont utilisées. D'autre part, la résistance présente également une résolution élevée qui permet de réaliser des motifs jusqu'à quelques microns de taille. Par exemple, CHEMALUX 100 convient pour réaliser des motifs de 0,5 μ m X 1 μ m. Enfin, le brassage de l'actif de résistance est optimisé par l'utilisation de la technologie d'inversion d'image où une image positive peut facilement être inversée en une image négative correspondante. Dans l'ensemble, 100 est un modèle de photorésist haute performance qui facilite la production rapide et précise de motifs de haute résolution pour diverses applications électroniques. Grâce à ses caractéristiques avancées et à son procédé facile à utiliser, il est possible de produire des motifs précis avec une précision micronique, ce qui en fait le choix privilégié pour les systèmes photorésistants.