Occasion CHEMALUX 300 #9253608 à vendre en France

CHEMALUX 300 est un équipement de photorésistance qui permet la production d'un revêtement résistant aux produits chimiques sur une grande variété de substrats. Le système est constitué d'une résine négative, généralement un matériau polymérique, sur laquelle on applique une photorésist positive. 300 est une unité multicouche, la résistance négative étant d'abord appliquée, puis la résine photosensible étant appliquée sur la couche négative. La résine photosensible est un polymère photosensible et sensible à la lumière qui ne réagira qu'en cas d'exposition au rayonnement dans le spectre UV-C. Cela permet un balisage précis et une photolithographie. La machine de photorésistance CHEMALUX 300 est constituée d'un révélateur semi-aqueux, d'un solvant chimique et d'un revêtement de présensibilisation contenant un composé photosensible. Lorsque cet outil est exposé à la lumière UV, une réaction induite par la lumière se produit, et une couche de résistance interactive est formée. La couche de résistance fonctionne comme un « bouclier chimique » qui protège les substrats en dessous de tout processus chimique réactif. La couche de résine fournit également une excellente base pour le traitement ultérieur. En masquant certaines zones des substrats, à l'aide d'un matériau de blocage de la lumière, on peut réaliser un motif désiré. 300 offre d'excellentes propriétés d'adhérence et de résistance chimique, ce qui le rend idéal pour une variété de substrats dont le verre, le métal, le silicium et le diamant. Il offre des avantages significatifs par rapport aux techniques traditionnelles de masquage des métaux et permet un tissage très précis et complexe. De plus, CHEMALUX 300 n'est pas affecté par des températures allant jusqu'à 200 ° C, il peut donc être utilisé pour un large éventail d'applications, y compris la gravure et le dépôt. Pour utiliser l'actif photorésist, on sensibilise d'abord le substrat soit avec une solution d'acide chlorhydrique, soit avec un solvant. On prépare ainsi le substrat pour la résine photosensible. La résine photosensible est ensuite appliquée et laissée sécher. Une fois la résine photosensible appliquée, une source lumineuse d'exposition est utilisée pour modeler le substrat. Le modèle 300 résist est très sensible et permet une modélisation très précise. Enfin, le substrat est immergé dans une solution de développement pour compléter le processus. CHEMALUX 300 est un équipement photorésist très polyvalent et fiable. Il est rapide, efficace, économique et offre une excellente adhérence et résistance chimique. Grâce à sa grande sensibilité à la lumière UV, 300 peuvent être utilisés pour une variété de procédés, y compris la gravure et le dépôt. Le système photorésist est couramment utilisé dans la production de dispositifs semi-conducteurs, d'affichages à panneaux plats et de composants de photolithographie.