Occasion CIBA GEIGY CLD 3 #94697 à vendre en France

CIBA GEIGY CLD 3 est un équipement de photorésistance développé par la société CIBA GEIGY. Il s'agit d'une photorésist à action négative, ce qui signifie que les zones non exposées peuvent être enlevées et qu'il reste des zones exposées, ce qui permet de créer des motifs dans la photorésist en exposant sélectivement puis en gravant les parties indésirables. Ce système est conçu spécifiquement pour produire des motifs fins, complexes et très précis, tels que ceux trouvés dans les conceptions de circuits intégrés. Il travaille en enrobant sur la surface du substrat un mince film de matériau photosensible. Ce film est alors sélectivement exposé à la lumière qui décompose la matière exposée et laisse la matière non exposée intacte. Le matériau exposé est ensuite éliminé à l'aide d'un solvant chimique, d'un procédé de gravure ou d'une autre méthode. La partie restante de la résine photosensible sert de masque pour une gravure ou un traitement ultérieur. Dans le cas du CLD 3, la photorésist est composée d'une nouvelle formulation qui la rend très stable, avec un minimum de décalage après exposition, et une forte résistance à la gravure. Correctement exposé et développé, le photorésist CIBA GEIGY CLD 3 offre une excellente résolution et un simple traitement. La taille minimale des caractéristiques réalisables dépend de l'équipement utilisé, mais peut atteindre 0,25 micron. Il présente également une impression contrastée élevée, ce qui signifie que la couche de résine photosensible peut être soumise à des solutions de gravure plus fortes, ce qui donne des résultats de gravure plus fiables. Cette machine offre également une gamme de flexibilité, car elle peut être utilisée avec de nombreux substrats différents, y compris le verre, le métal, le plastique et les matériaux semi-conducteurs. En bref, CLD 3 photoresist outil est une norme de l'industrie pour créer des modèles fins, complexes et très précis pour les circuits intégrés et autres dispositifs spécifiques. Il est fiable, stable et capable de produire des caractéristiques aussi petites que 0,25 microns de taille, peut être utilisé sur une gamme de substrats, et fournit une excellente résistance au contraste et à la gravure.