Occasion CND PLUS CIE-2C02(04)-C #9223039 à vendre en France

CND PLUS CIE-2C02 (04) -C est un système de photorésist basé sur le positif CIE-2C02 (04) développé pour le processus de photolithographie. Il offre des propriétés de gravure et de résistance chimique supérieures aux photorésistances positives classiques, permettant une structuration précise et uniforme des motifs de circuits avec des taux de défauts faibles. La résistance est basée sur un mélange de trois composants : un polymère réticulable, un bloqueur de lumière et d'oxygène et un composé photoactif (PAC). Le mélange est combiné avec d'autres composés photochimiques et thermiquement stables pour créer une émulsion radiosensible. Lorsqu'elle est exposée à la lumière ou au rayonnement, l'émulsion transforme l'énergie en une image latente. L'agent de blocage de la lumière aide à réduire la formation d'images de fond indésirables, tandis que le PAC augmente l'adhérence de la résistance. Le polymère réticulable permet de protéger la résistance contre la dégradation photocatalytique, améliorant ainsi sa stabilité. Lorsqu'elle est exposée à la lumière, l'image latente est amplifiée par le PAC, ce qui déclenche la polymérisation de la résine. L'image amplifiée permet de créer un motif haute résolution avec des largeurs de ligne précises et précises. Pendant la cuisson post-exposition (PEB), la chaleur générée au-dessous ou au-dessus du point de fusion de la résistance contribue à amplifier davantage l'image latente, conduisant à une meilleure résolution. La résistance CND PLUS possède d'excellentes propriétés de résistance et de gravure, avec une résistance aux produits chimiques de base et acides. Il présente également une amélioration de la gravure humide et de l'adhérence du film sur de nombreux substrats, avec une pente de fond minimale et de faibles taux de défauts. La résistance est compatible avec le traitement standard de la résine photosensible, y compris le revêtement antireflet, le four post-exposition et le four post-développement. Il offre également une meilleure durée de conservation et stabilité de stockage par rapport aux photorésistances classiques, permettant une capacité de stockage à plus long terme. En résumé, CND PLUS CIE-2C02 (04) -C est un système photorésist positif conçu pour fournir une haute résolution, précision et uniformité pour les processus de lithographie. Avec ses excellentes propriétés de gravure, d'adhérence et de stockage, la résine offre une alternative fiable pour la fabrication de motifs de circuits avec des taux de défauts minimes.