Occasion CND PLUS CIE-2C3D02(04)-2 #9144079 à vendre en France

CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 est un équipement de photorésistance haute performance conçu pour les applications d'exposition aux UV profonds (DUV). Ce système offre des performances exceptionnelles et des fonctionnalités avancées pour rendre les processus lithographiques dans les applications critiques UV/photolithographie profonde facile et plus efficace. L'unité de photorésistance CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 consiste en un photopolymère sensible aux UV qui est très réactif au rayonnement UV et conçu pour l'imagerie ultra-résolution. Les deux composants de cette machine, un photorésist soluble alcalin et un révélateur de solvant organique, produisent une image extrêmement durable et à haute résolution. La résine photosensible est formulée pour avoir une excellente adhérence sur le substrat et être résistante aux processus de nettoyage tant acide que basique. Le développeur offre des conditions d'exposition optimales et un contraste élevé entre les zones exposées irradiées et non exposées, ce qui le rend adapté aux applications de lithographie UV profonde. L'outil de photorésistance CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 présente également une large gamme d'autres propriétés qui en font un choix idéal pour des applications de lithographie avancées, y compris une grande transparence, un faible taux de stripage, une sensibilité exceptionnellement faible à l'acide et à la base, et une sensibilité élevée à toutes les longueurs d'onde de la lumière UV. Il est facilement mélangé et appliqué directement sur le substrat, rendant le processus d'imagerie simple et efficace. De plus, l'actif photorésist CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 offre une excellente résistance à la gravure, ce qui le rend adapté à une variété de processus de lithographie d'imagerie directe. Le modèle photorésist CND PLUS CIE-2C3D02 (04) -2 est le choix idéal pour les applications nécessitant une haute résolution et une fiabilité robuste dans les applications de lithographie UV profonde de haute qualité. Sa grande utilisabilité, son temps d'exposition rapide et son excellente résolution d'image en font un choix idéal pour une pléthore d'applications de lithographie DUV, allant de la fabrication de semi-conducteurs au MEMS et à la microélectronique.