Occasion CND PLUS CIE-3C02(04)-C #293642075 à vendre en France

CND PLUS CIE-3C02 (04) -C est un équipement de photorésistance composé d'une photorésist et d'un développeur, formulé pour être utilisé dans la fabrication de composants électroniques. Elle est particulièrement adaptée aux procédés lithographiques avancés tels que la photolithographie laser à écriture directe, la lithographie électronique à écriture directe et d'autres procédés lithographiques de précision. Le système photorésist est constitué d'un substrat polymérique et d'une couche active photosensible. Cette couche est optiquement déclenchée soit par une lumière UV produite synthétiquement, soit par des électrons. Lors de l'exposition au rayonnement approprié, il se produit une réaction chimique qui modifie la structure moléculaire du substrat polymère. Cette réaction conduit à un déplacement moléculaire dans le film polymérique, fournissant des structures en relief dans le film. Les structures en relief sont ensuite développées dans la solution solvant appropriée. Le révélateur appliqué sur la couche photoréceptrice est un 3-composant contenant du diéthylène glycol monobutyléther, du t-butyl méthyléther, du propylène glycol et un tensioactif. Cela permet le développement complet avec l'élimination fiable de toute la couche de résiste. Le révélateur étant insoluble dans l'eau, il ne dissout aucun résidu indésirable. L'unité photorésist offre une sensibilité élevée, ce qui le rend apte à modeler des caractéristiques de rapport d'aspect élevé. Il est également résistant aux chocs thermiques, ce qui le rend idéal pour les tissus nécessitant des températures de recuit élevées. La machine photorésist est conçue pour fournir une réplication précise et uniforme des motifs et des caractéristiques de haute résolution avec des processus lithographiques. La couche de résine confère une excellente adhérence au substrat et résistivité chimique, permettant au substrat de rester propre aux contaminants chimiques. La couche de résine photosensible construite avec CND PLUS CIE-3C02 (04) -C restera stable sur une large gamme d'expositions chimiques et mécaniques, ainsi que sur des expositions thermiques et radiologiques. Le déplacement moléculaire dans le substrat permet également une réplication précise et répétable du motif, assurant des résultats cohérents à partir d'un ensemble identique de procédures utilisées dans la fabrication. L'outil photorésist de CND PLUS CIE-3C02 (04) -C est très économique, ce qui en fait un choix idéal pour une large gamme d'opérations de fabrication de composants électroniques. Ses excellentes performances dans les procédés lithographiques, sa résistivité chimique et mécano-chimique, son adhésif et sa stabilité aux rayonnements en font un actif photorésistant idéal pour la fabrication d'appareils électroniques.