Occasion CND PLUS CIE-3D02(04)-C #9223035 à vendre en France

CND PLUS CIE-3D02(04)-C
ID: 9223035
Style Vintage: 2009
Developer system 2009 vintage.
L'équipement de photorésistance CND PLUS CIE-3D02 (04) -C est un système polyvalent et fiable utilisé pour produire des circuits modernes et d'autres substrats électroniques avancés pour l'industrie des semi-conducteurs. Cette technique avancée de photolithographie utilise la lumière pour transférer une image chimique sur une gamme de résines à base de silicone. La composition souple de cette résine photosensible lui permet de résister à l'exposition à une grande variété de solvants, de températures et d'agents de gravure. Cette unité est spécifiquement conçue pour offrir une résolution et des résultats supérieurs pour la production de cartes de circuit. La photorésist CND PLUS commence par un substrat revêtu d'une amorce pigmentée grise utilisant une réaction chimique avec la photorésist. Cette amorce aide à réduire les réactions chimiques indésirables avec la résine photosensible tout en assurant une finition de surface plus lisse. Le substrat est alors exposé à la longueur d'onde appropriée de la lumière provenant d'une machine de photolithographie. Cette lumière active les photo-initiateurs dans la résistance et permet la création du motif de circuit ciblé. L'intensité de la lumière détermine la profondeur du motif créé et permet un contrôle précis des dimensions du circuit. Après exposition, le substrat est exposé à un solvant de développement pour éliminer tout photorésist en excès qui n'a pas été exposé à la lumière. Ce processus est suivi d'un post-cuisson à une température contrôlée avec précision pour durcir davantage la surface et créer une finition de surface durable. A ce stade, une gravure sélective solvant ou chimique peut être utilisée pour créer un motif de circuit requis. L'outil CND PLUS permet l'imagerie de plus grands circuits ainsi que les détails complexes de plus petits. Enfin, après avoir obtenu le résultat souhaité, la couche de résine restante est dépouillée par un lavage chimique approprié. Ce procédé laisse derrière lui un substrat fini avec une surface gravée avec précision. Cet actif de photolithographie est particulièrement utile pour des applications spécialisées, telles que la microfluidique ou les cartes de circuits imprimés. De plus, sa résolution et sa précision supérieures en font un choix fiable pour des applications de production de haute qualité. Le modèle photorésist CND PLUS est une solution efficace pour diverses applications à base de substrat. Ses capacités polyvalentes, ses performances fiables et sa résolution précise en font un choix privilégié parmi les fabricants pour la production de cartes de circuit sensibles.
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