Occasion CND PLUS CIE-4D02(04)-C #9267215 à vendre en France

CND PLUS CIE-4D02 (04) -C est un équipement de photorésistance de pointe développé par CND (Coating and Developing Inc.), un fournisseur leader de matériaux et de solutions de photochimie pour la production industrielle de semi-conducteurs et d'autres circuits intégrés. Le système photorésist CND PLUS est spécialement conçu pour être utilisé dans les processus de photolithographie en écriture directe pour la création de circuits intégrés de haute précision et d'autres composants microélectroniques. Cette unité utilise un revêtement photorésistant lithographique dur propriétaire, ainsi que la technologie avancée de dépôt à quatre couches (4D02) du CND pour créer des caractéristiques avec un niveau de résolution et une homogénéité exceptionnellement élevés. Le revêtement CND 4D02 se compose de quatre couches de film distinctes qui sont spécifiquement conçues pour interagir avec les processus de photolithographie classiques. Les quatre couches sont conçues pour interagir et moduler avec les éléments optiques photolithographiques de la machine de projection pour donner les caractéristiques précises souhaitées par le concepteur dans le produit fini. La première couche du revêtement 4D02 est une couche de blocage UV. Cette couche contribue à créer l'uniformité du processus lithographique nécessaire pour créer des détails de petits objets et peut également éviter la surexposition de la résistance et la contamination de la plaquette de silicium sous-jacente. La deuxième couche est une couche durcie absorbant les UV, qui aide à réduire la profondeur de mise au point et les dimensions critiques (CD) requises pour une impression acceptable. Cette couche chimique apporte plus de précision et de précision et contribue à augmenter le rendement. Les troisième et quatrième couches sont respectivement une couche de résine photosensible et une couche d'arrêt de gravure renforcée par les UV. Ces couches interagissent pour protéger la plaquette de silicium sous-jacente contre une surexposition potentielle et une attaque chimique. Ensemble, ils contribuent à assurer des impressions de haute qualité avec des limites de caractéristiques plus précises et une résolution plus élevée que celles obtenues avec les processus de photolithographie classiques. L'outil photorésist CND PLUS CIE-4D02 (04) -C est idéal pour les couches diélectriques de haute densité, ultra fines et complexes utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et microélectroniques avancés. Sa couche durcie absorbante aux UV aide à améliorer la résolution et réduit le CD nécessaire pour obtenir une impression acceptable, tandis que son revêtement à quatre couches améliore l'uniformité lithographique et les performances de profondeur de champ. Les spécifications CD réduites permettent un rendement plus élevé avec des motifs plus complexes, tandis que les couches de protection aident à assurer une meilleure répétabilité et des durées de vie plus longues.