Occasion CONVAC 6000 #26871 à vendre en France

CONVAC 6000 est un équipement de haute performance de photorésistance industrielle conçu pour la photolithographie dans l'industrie de la microélectronique. Le système est composé d'un sous-système d'éclairage, d'un sous-système de masque et d'une tête de revêtement et de développement en résistance. Le sous-système d'éclairage utilise deux sources laser F2 excimères fournissant de l'énergie jusqu'à 550mJ/ cm2, une fréquence jusqu'à 400kHZ et une taille de tache jusqu'à 3um pour l'éclairage latéral avant. Le sous-système d'éclairage comprend également une cellule laser à entrefer variable, des alimentations laser et un obturateur. Le sous-système masque dispose d'un changeur de masque à vide automatisé, et d'un exposant de masque à quartz automatisé. L'exposant permet de multiples angles d'éclairage et temps d'exposition, dans des motifs de champ lumineux et sombre. La tête de revêtement en résine est conçue pour assurer une homogénéité supérieure sur une plaquette. Il est capable d'enduire jusqu'à 300mm de pièces avec des films épais, ainsi que des films minces, avec une précision et une précision égales. Le revêtement résineux utilise des vannes automatiques actionnées par solénoïde, qui fournissent un débit, une pression et une température précises pour chaque étape du processus de revêtement. La tête de développement de 6000 dispose d'un pulvérisateur atomisé à base de quadrupole, qui facilite des temps de développement uniformes sur toutes les parties de la plaquette. L'atomiseur pulvérise des milieux de gravure à base de solvant à la surface de la résine et permet des techniques avancées d'élimination de la résistance telles que la gravure stéréotactique. Dans l'ensemble, CONVAC 6000 est une machine de photolithographie fiable et compacte qui est idéale pour une production de haute précision, permettant un débit maximum. Sa manipulation automatisée du masque, ses angles d'éclairage variables et sa précision résistent aux dépôts, ce qui le rend idéal pour une productivité élevée continue en conception microélectronique.