Occasion CONVAC CBA-3–3 M-2000 #9016683 à vendre en France

CONVAC CBA-3-3 M-2000 est un équipement de photorésistance utilisé pour réaliser des motifs de lithographie précis sur des composants semi-conducteurs et microélectroniques. Il est utilisé pour faciliter une variété d'applications comme l'échantillonnage, le masquage, la gravure et l'impression. Le composant principal du système photorésist est la pompe conforme, qui est conçue pour utiliser un mélange liquide ou gazeux pour créer une image de contraste élevé à la surface d'une pièce. La pompe elle-même est capable d'appliquer différentes épaisseurs de photorésist, allant de 20 à 500nm d'épaisseur, quelle que soit la forme du substrat. La pompe est également capable d'obtenir une couverture uniforme allant de 5 μ m à 1 mm, ce qui la rend adaptée à diverses applications de lithographie. L'utilisateur peut modifier les paramètres de réglage de la pompe conforme pour produire des motifs photorésistants différents. Ceci est obtenu en ajustant le temps d'exposition et l'épaisseur, ainsi que le type de résistance. Après application de la photorésist, le photomasque est éclairé et les zones exposées de la photorésist sont développées. Ceci provoque l'élimination de la résine photosensible dans ces zones, révélant le substrat ci-dessous. La résine photosensible restante peut alors être enlevée et remplacée par un matériau nouvellement créé. En outre, l'unité de photorésistance CONVAC CBA-3-3 M-2000 est équipée de nombreuses fonctions de sécurité, telles que l'arrêt automatique et les alarmes automatiques pour avertir l'utilisateur si des paramètres ont été modifiés en dehors de la plage opérationnelle. Il est également capable d'un certain suivi en temps réel, permettant aux utilisateurs de revoir et d'ajuster les paramètres de traitement au besoin. Cela permet d'assurer une répétabilité et une cohérence optimales entre les applications. Au total, la photorésistance CONVAC CBA-3-3 M-2000 offre aux utilisateurs un moyen fiable et précis de réaliser des motifs de lithographie complexes. Il permet de contrôler avec précision l'application de la résine photosensible, ce qui permet aux utilisateurs de personnaliser les motifs en fonction de leurs besoins. Enfin, ses dispositifs de sécurité améliorés garantissent que les utilisateurs restent toujours informés de ses paramètres opérationnels et peuvent les ajuster au besoin.