Occasion CONVAC CBA-M-2000 #293747948 à vendre en France

CONVAC CBA-M-2000 est un équipement de photorésistance conçu pour déposer des couches minces de matériau photorésist sur des surfaces de substrat. C'est un système convivial qui est largement utilisé dans la fabrication de circuits complexes et qui convient à la fois aux processus de production semi-automatiques et entièrement automatisés. L'unité est capable de commander deux unités de dépôt indépendantes, chaque unité étant munie d'une machine de déviation du faisceau permettant de créer des motifs de résistance précis. Utilisant des particules énergétiques telles que des électrons, des ions gallium ou des ions xénon, CBA-M-2000 est capable d'atteindre une résolution allant jusqu'à 0,1 micromètre, ce qui en fait un outil idéal pour la réalisation de circuits de haute précision. Afin d'assurer la plus grande précision des dépôts de résistance, CONVAC CBA-M-2000 offre une large gamme de paramètres de fonctionnement. Il s'agit notamment du choix des modes de dépôt de protection ou de gravure, de la possibilité de choisir entre une large gamme de courants de faisceau et de niveaux d'énergie du faisceau, ainsi que des paramètres réglables de filtrage et de balayage du faisceau d'électrons. L'outil offre également plusieurs modes de génération de motifs et la possibilité de programmer des coordonnées semi-automatiquement ou manuellement. Pour la commodité de l'utilisateur, CBA-M-2000 dispose d'une variété de caractéristiques de sécurité, y compris un dispositif d'interception de gaz, un ensemble d'interceptions de sécurité, un bouton d'urgence, un modèle d'avertissement de proximité et un équipement d'enregistrement de données. Il est également capable d'exécuter des instructions logicielles avancées, permettant une intégration facile avec les systèmes de production existants. Avec son interface conviviale et son graphisme interactif, CONVAC CBA-M-2000 est un excellent choix pour ceux qui souhaitent utiliser un système photorésist fiable et efficace.