Occasion CONVAC CEA-M-2000 #293747949 à vendre en France

L'équipement de photorésistance CONVAC CEA-M-2000 est un système de production photochimique multi-couches performant et multifonctionnel conçu pour créer et traiter des photorésists. Les photorésistes sont utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques et de circuits intégrés, et CEA-M-2000 est spécifiquement conçu pour offrir des procédés de lithographie et de gravure en une étape pour des applications ultraviolettes profondes et ultraviolettes extrêmes. Il dispose d'une structure compacte et modulaire, avec un mécanisme de convoyage horizontal et des capacités de manipulation de substrat de grande capacité. CONVAC CEA-M-2000 est capable de produire et de traiter des résistances photo avec différents matériaux dont du silicium polycristallin, du dioxyde de silicium et du diamant polycristallin. Sa conception modulaire offre une large gamme d'options d'exposition, y compris la projection, l'impression de contact ou de proximité, et l'exposition numérique. L'unité assure également une uniformité et une résolution accrues grâce à ses systèmes de photorésistance, de post-traitement et de contrôle riches en fonctionnalités. De plus, la machine est capable de masquer l'alignement des plaquettes, avec l'utilisation d'une plate-forme unique d'asservissement DC. En outre, l'outil offre une large gamme de fonctionnalités pour la réduction des coûts et l'optimisation des processus. Il fournit un atout de planarisation intelligent pour la gravure, qui permet aux utilisateurs d'optimiser les paramètres de gravure afin d'atteindre le profil de gravure désiré. En outre, il dispose d'une technique de gravure à sec de pointe, qui permet aux utilisateurs de réduire les coûts et les temps de gravure. Le modèle offre également un équipement de balayage d'uniformité des plaquettes, qui peut mesurer la quantité exacte de gravure et la surface exposée sur chaque plaquette. CEA-M-2000 système photorésist est conçu pour répondre aux exigences de l'industrie moderne des semi-conducteurs et de l'optoélectronique. Avec ses composants performants et son traitement automatisé des résines photosensibles, il apporte aux utilisateurs des capacités de lithographie et de gravure sans précédent pour la fabrication d'appareils. Cette unité aide les utilisateurs à réduire leur coût et leur temps de production de photorésist, à augmenter les rendements et à augmenter le débit. La machine est très fiable et extrêmement robuste, avec la capacité de tolérer des conditions de travail robustes et des températures élevées.