Occasion CONVAC M 2000 #293585687 à vendre en France

CONVAC M 2000 est un équipement de photorésistance destiné au traitement des semi-conducteurs. Il est principalement utilisé pour des applications de lithographie microélectronique, telles que le dépôt de couches minces, la gravure 3D et la gravure de cartes de circuits imprimés. Le système est conçu pour permettre aux utilisateurs de développer rapidement une variété de structures semi-conductrices avancées avec une grande précision. CONVAC M2000 est capable de se déplacer rapidement et d'aligner avec précision une gamme d'outils optiques tels que des steppers, des scanners et des microscopes. Cela permet aux utilisateurs de transformer des formes 3D complexes en caractéristiques de surface précises sur les substrats. L'unité peut être configurée pour le fonctionnement manuel et automatisé. M 2000 dispose d'une plaque de masque photo unique qui peut être utilisé pour générer des motifs exacts à partir d'un design donné. La plaque est composée d'un film polymère et est sensible aux rayons ultraviolets et aux rayons X. Les utilisateurs sélectionnent un ou plusieurs éléments photosensibles sur la plaque pour générer le motif désiré. Ceci peut être réalisé en exposant directement la plaque à la source de rayonnement ou en utilisant un dispositif programmé tel qu'un stepper. La machine supporte également divers autres procédés qui complètent les opérations de photorésistance. Cela inclut les opérations de post-traitement, telles que la cendre, le dopage et la pulvérisation. L'outil supporte également la gravure humide, ce qui permet aux utilisateurs de graver plus précisément à l'intérieur d'une structure. M2000 combine des capacités avancées avec des contrôles faciles à utiliser, fournissant un moyen fiable et rentable d'effectuer des opérations photorésist de haute qualité. C'est la plate-forme idéale pour les petits laboratoires et les lignes de production en raison de son haut niveau de précision, de flexibilité et d'évolutivité.