Occasion CRESSINGTON 108 Carbon/A #293656286 à vendre en France

CRESSINGTON 108 Photorésist Carbon/A est une technologie de pointe de photolithographie utilisée dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Utilisant une méthode de dépôt en phase vapeur organique (CVD) à base de carbone, le système permet un contrôle précis du dépôt d'un matériau photorésistant à base de carbone sur un substrat de plaque. On obtient ainsi une grande homogénéité en ce qui concerne les caractéristiques et la qualité de la résine photosensible déposée. L'unité est constituée d'une chambre de dépôt automatisée, d'une chambre de distribution de photorésist pour une application précise du matériau de photorésist, et d'une chambre de développement de photorésist pour une cuisson post-dépôt. La machine est capable de déposer des photorésistes dont l'épaisseur varie de 0,5 µm à 200 µm avec une uniformité ± 0,5 micron et une vitesse de traitement de 11-30 wafers par heure. L'outil peut être utilisé avec des produits chimiques photorésistants standards tels que SU-8, AZ, ORM et HMDS, et peut être optimisé pour des applications photorésistantes spécifiques telles que le revêtement métallique ou diélectrique, le masquage multicouche et la lithographie latérale. La plage de température dans la chambre de dépôt est comprise entre 25 et 185 ° C, et un vide stable à 0,1 Torr peut être obtenu à des températures de processus plus basses pour les processus de gravure critiques. L'actif offre une variété de fonctionnalités pour améliorer les performances du processus d'application photorésist, y compris un modèle automatisé d'étalonnage du débit de distribution pour un contrôle précis, et un enregistreur de données intégré qui enregistre tous les paramètres du processus. De plus, l'équipement comprend un système de diagnostic interne pour détecter un fonctionnement défectueux lors du dépôt de photorésist. Le photorésist CRESSINGTON 108 Carbon/A est polyvalent et fiable et est capable de produire des couches de photorésist de haute précision et d'uniformité pour une large gamme d'applications critiques de semi-conducteurs. Avec son automatisation intégrée, ses capacités de diagnostic et de surveillance avancées et le contrôle des paramètres de processus, la machine est un choix idéal pour les processus de photolithographie de pointe de l'industrie.