Occasion CSE S-470 #9409615 à vendre en France
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CSE S-470 est un système de photorésistance positive spécialement conçu pour les applications d'exposition aux UV. Il est composé d'un composant polymérique avec un ensemble propriétaire de résines et de photo-initiateurs qui forment le composant actif de la résine photosensible. En présence de lumière UV, ce composant subit une réaction photochimique conduisant à la formation d'un mince film polymérique. Le film polymérique mince créé par le système photorésist fournit une surface non définie et uniforme apte à former l'image, ainsi qu'une barrière pour protéger le substrat sous-jacent de la contamination. En conséquence, il est capable de produire des images extrêmement précises et à haute résolution pour de nombreux types d'applications. La photorésist est très sensible à la lumière UV, ce qui permet un temps d'exposition rapide et une résolution accrue pour l'image résultante. De plus, S-470 est extrêmement robuste et résistant à l'abrasion, aux températures extrêmes et aux produits chimiques durs. Cela en fait un excellent choix pour une variété d'applications industrielles telles que la production électronique, la production de dispositifs optiques et médicaux, et la lithographie de circuits. CSE S-470 est également capable de reproduire et de transférer avec précision des images complexes, telles que des lettres surélevées ou des motifs complexes. Ceci est dû au fait que le substrat peut être facilement manipulé et mis en forme sans modification significative du film de résine photosensible ou du substrat sous-jacent exposé. De plus, la résine photosensible peut être facilement et efficacement retirée de n'importe quel substrat une fois qu'elle n'est plus nécessaire. Dans l'ensemble, S-470 est un excellent choix pour de nombreuses applications d'exposition aux UV. Il est facile à utiliser, robuste et résistant à diverses conditions environnementales. De plus, sa sensibilité et sa résolution supérieures le rendent idéal pour les images complexes et les applications lithographiques.
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