Occasion CYBOR 05026-00CL B #86310 à vendre en France

Le matériel de photorésistance CYBOR 05026-00CL B est un système de lithographie ultramoderne de Canon qui est utilisé pour un certain nombre d'applications, y compris la photomasque, la plaquette de silicium, le MEMS et d'autres appareils électroniques. L'unité est conçue avec une conception modulaire, ce qui la rend flexible et capable d'un large éventail d'opérations. La machine est équipée d'un alignement réglable à 5 axes et d'un étage motorisé, ce qui permet un placement précis des films et substrats photorésistants. L'étage motorisé fournit une résolution précise et répétable jusqu'à 0,1 μ m, donnant à l'outil un bord sur les systèmes de positionnement manuel. CYBOR actif peut positionner avec précision les substrats sur une surface de 9,3 cm sur 9,3 cm. Cela fait du modèle un choix idéal pour des applications avancées telles que la production, la production de dispositifs logiques avancés, la production de nanodévice et les dispositifs MEMS. L'équipement est adapté au traitement d'une gamme variée de films photorésistants, allant des films minces aux films épais. En outre, le système CYBOR est fourni avec des paramètres d'exposition avancés, permettant un contrôle précis de la dose d'exposition et du temps d'exposition. Ceci permet d'assurer la précision et la précision du substrat photorésistant recouvert. L'unité permet également d'enregistrer les données et d'analyser les résultats de chaque exposition. 05026-00CL B photorésist machine est conçu pour des applications de haute technologie exigeantes. Il est très fiable, précis et rentable. L'étape motorisée innovante et l'outil d'exposition haute vitesse offrent une solution précise et répétable pour un large éventail de besoins de production. Cet atout offre une flexibilité maximale, permettant la production d'une gamme variée de substrats, des films minces aux films épais, en passant par des paramètres d'exposition de haute précision et des options d'alignement avancées. Le modèle CYBOR photorésist fournit la plus haute qualité de photolithographie pour les besoins de production à grande échelle.