Occasion DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D #9132943 à vendre en France

DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D est un équipement de photorésistance conçu pour effectuer des processus de gravure, de gravure et de dépôt. Ce système est doté d'une unité à double faisceau qui combine l'électronique de pointe et l'optique pour une stabilité et une vitesse de traitement supérieures. La machine à deux faisceaux permet l'affichage simultané, l'exposition et la gravure à l'avant et à l'arrière de la pièce. Il dispose d'une fenêtre de visualisation à quartz avancée qui permet aux opérateurs de surveiller les processus de gravure et de photo sous différents angles. Cet outil photorésist est équipé d'un outil de positionnement et de suivi XY de précision entièrement automatisé qui garantit un emplacement précis du motif, quelle que soit la forme et la taille de la pièce. Il offre une homogénéité et une répétabilité à haute vitesse pour une précision améliorée. Il offre également des capacités de contrôle de l'exposition aux UV et aux NIR. Le modèle est intégré à un photodétecteur très avancé qui mesure avec précision la quantité d'énergie atteignant la surface de la pièce à tout moment. Cela rend SCH-2003BEW-S-D particulièrement adapté au traitement de plaquettes difficiles avec des couches de résistance inégales. En outre, l'équipement utilise également la technologie de placage II-VI pour améliorer la résistance à la corrosion dans le processus de gravure. De plus, le logiciel avancé de contrôle de l'exposition permet à l'opérateur de définir les niveaux d'énergie, les largeurs d'impulsions et les temps d'exposition pour des résultats reproductibles. Avec ses moteurs à grande vitesse, l'unité supporte le traitement par lots de composants complexes avec la plus grande précision. DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-2003BEW-S-D dispose également d'une capacité unique de cuisson post-exposition pour promouvoir le durcissement post-exposition et la solidification de la couche de résistance. Ceci est particulièrement utile pour le traitement d'applications sensibles à la température et au temps. Une photorésistance intégrée aide au calcul précis de l'énergie et des propriétés photochimiques de la surface exposée de la plaquette. Dans l'ensemble, cette photorésistante de DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES offre la flexibilité et les performances nécessaires au traitement de composants sophistiqués avec une précision fiable. Il est également très efficace et offre des capacités de gravure et de fixation améliorées pour des cycles de développement plus rapides.