Occasion DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCQR-2004V-M #9132942 à vendre en France

L'équipement de photorésistance DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCQR-2004V-M est un système de photolithographie de pointe qui combine un balayage polyvalent et de haute précision pour fournir une solution automatisée et fiable pour la fabrication de dispositifs avancés. Il est capable d'un large éventail d'opérations de lithographie, y compris l'alignement classique du masque, l'alignement de proximité, et l'exposition au faisceau. La machine Laser Diode Scanning Machine (LDSS) permet un fonctionnement à grande vitesse et une précision exceptionnelle qui est critique dans l'industrie des semi-conducteurs d'aujourd'hui. SCQR-2004V-M outil comprend un atout unique double auto-alignement (DAQS) qui permet un alignement rapide du masque et du substrat. Cela permet une efficacité maximale lors de la mise en place et de l'achèvement du processus de balisage. Utilisant la technologie d'imagerie laser exclusive de DAN-TAKUMA, le DAQS réduit considérablement le temps d'alignement par rapport à l'alignement manuel classique. Le modèle dispose également d'un équipement hexagonal de direction/catadioptrique de haute précision qui utilise une combinaison de la réflexion et de la réfraction de la lumière source pour générer une tache de lumière focalisée tout en minimisant la distorsion dans l'image. Ce système est idéal dans la fabrication de structures fines et géométriquement complexes, car il permet une exposition très uniforme du motif sur le substrat cible. L'unité photorésist DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCQR-2004V-M permet aux utilisateurs de choisir parmi une variété d'options d'imagerie, y compris des motifs linéaires, radiaux et de balayage en spirale. Il offre également des temps d'exposition variables et une flexibilité dans la définition des paramètres d'exposition. Cette fonctionnalité permet aux utilisateurs de s'adapter à leurs propres exigences d'application pour produire des résultats précis et de haute qualité. De plus, la machine offre des fonctionnalités avancées telles que des paramètres d'exposition dépendant de la longueur d'onde, des expositions par étapes et un contrôle automatique de l'exposition. Cela permet une production rapide et précise de dispositifs à haute résolution sans sacrifier la qualité. SCQR-2004V-M outil photorésist est une solution idéale pour produire des motifs précis de haute qualité. Il combine une gamme de capacités polyvalentes avec un fonctionnement à grande vitesse et une précision exceptionnelle pour fournir une plate-forme automatisée, fiable et innovante pour la fabrication de dispositifs avancés.