Occasion DELTA 7EK #9395519 à vendre en France

DELTA 7EK est un système de photorésistance conçu pour l'industrie lithographique. Les photorésistes sont des matériaux photographiques sensibles aux UV ou aux rayons X utilisés pour créer des microstructures à motifs sur des plaquettes semi-conductrices. 7EK se compose de deux composants : une couche photosensible (telle qu'un acrylique photosensible, époxy ou polyimide) et un graveur développeur/substrat. La couche photosensible est déposée sur un substrat puis exposée à une source d'énergie telle que les UV ou les rayons X. La source d'énergie provoque une réaction chimique dans la couche photosensible qui la fait devenir plus soluble dans l'agent révélateur/substrat. Cet etchant peut alors être utilisé pour développer des caractéristiques sur la surface du substrat. Ces caractéristiques sont typiquement modélisées au moyen d'un photomasque, mais peuvent également être développées directement en exposant le substrat à la source d'énergie. Afin de maximiser son efficacité, le système de photorésistance DELTA 7EK comporte plusieurs caractéristiques : 1. Une architecture d'empilement multicouches qui permet d'effectuer des analyses plus efficaces en permettant d'obtenir des tailles de caractéristiques plus fines sur un substrat. 2. Un revêtement antireflet sur le substrat pour maximiser l'absorption d'énergie UV ou de rayons X dans la couche de résine photosensible. 3. Une composition optimisée développeur/substrat etchant pour mieux résister au développement de motifs. 4. Un procédé « soft-bake » qui permet d'assurer une épaisseur uniforme de la couche de résine photosensible et des performances améliorées. 5. Un traitement « anti-écumage » pour minimiser le dépôt indésirable de photorésist résiduel à la surface du substrat. 7EK a été conçu pour fournir des résultats de calcul supérieurs, avec une excellente résolution, une excellente planarité de surface, et une définition supérieure des bords. De plus, il s'agit d'une solution très fiable et rentable pour la fabrication de structures structurées sophistiquées. En conclusion, le système photorésist DELTA 7EK est une solution lithographique fiable et économique qui fournit des résultats de mesure supérieurs, avec une excellente résolution, une excellente planarité de surface et une définition de bord supérieure. Il permet d'améliorer la taille des fonctionnalités et les performances grâce à son empilement multicouche et son revêtement antireflet, à la composition optimisée du développeur/substrat et aux procédés « soft-bake » et « anti-scumming ».