Occasion DISCO DSC 141 #293751064 à vendre en France

DISCO DSC 141
Fabricant
DISCO
Modèle
DSC 141
ID: 293751064
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2006
Wafer cleaning system, 8" 2006 vintage.
DISCO DSC 141 est un équipement de résistance photosensible révolutionnaire conçu pour être utilisé dans des procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs tels que la fixation de lignes de circuits ou de micro-trous sur des plaquettes. Ce système utilise la lumière pour agir comme catalyseur de transformations rapides de matériaux afin de traiter des motifs lithographiques, des images et des informations essentielles sur la surface d'une plaquette. Il produit des motifs de dimensions extrêmement réduites, permettant la fabrication de composants microélectroniques ultra haute densité. L'unité consiste en une étape de filage précise pour modifier délicatement le motif ainsi qu'une série d'optiques pour focaliser une image du motif sur la plaquette revêtue de photorésist. Les plaquettes utilisées sont typiquement des substrats de silicium revêtus d'un film de photorésist constitué d'un matériau polymérique ou copolymérique sensible à la lumière. Le photorésist est exposé à des longueurs d'onde spécifiques de rayonnement électromagnétique pour transformer sa structure chimique, permettant la progression des états liquides vers les états solides. Ce processus de transfert d'image permet l'édition d'un certain motif sur la surface de la plaquette. Après ces étapes, un processus de développement doit avoir lieu. Ce procédé met l'accent sur la polymérisation de la résistance exposée pour générer des structures plus petites. Une fois la résine photosensible exposée et traitée, des techniques de gravure et de découpage peuvent être appliquées aux circuits afin de créer les motifs et formes complexes des dispositifs dans l'industrie de la microélectronique. Enfin, la résistance d'accès doit être enlevée, laissant derrière elle les motifs désirés gravés dans la surface de la plaquette. En conclusion, DSC 141 est une machine photorésist avancée et très efficace qui permet aux fabricants de produire des motifs avec une grande précision et netteté. C'est un outil essentiel utilisé pour générer des motifs micrométriques et, ainsi, réaliser des composants microélectroniques ultrapériphériques.
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