Occasion DMC SA/3m #143322 à vendre en France
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ID: 143322
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2006
Wafer-level Electro Plating system, 8"
Used for Stamper and micro pattern electro-plating
Can be implement as high uniformity
Using cathode head rotating system can produce high-quality products
This equipment can be applied to MEMS type and performed on the trench fill electroplating
Process automation can be set with Independent program for each cell
Various plating condition can be set with Independent program for each cell
DC, pulse, pulse- reverse current can be supplied in the resolution ±1 mA
Ni, Ni-CO, Cu Electroplating can be performed with this equipment
Total solution volume: 500 liters
Features:
Small Footprint
Independent Pump/Filtration for each cell
Patented adjustable cathode head and workholder for precise control of thickness variation
Front access for maintenance
Integrated all-in-one design, integrated sump & electronics
Enclosed work area for process control
Industrial PC control with large flat panel touch-screen display
Switch mode rectifiers
Easy operator interface
All digital Control system
(Qty 3) Cells:
Pump: 1 HP
Heater: 6 kW
Rectifier: Standard 65 Amps, 24VDC
Filtration: 2 Stage
Pre-filter: 5 micron DOE, 20"
Final-filter: 0.45 micron DOE, 20"
Flow: 50 liter max (Adjustable)
2006 vintage.
DMC SA/3m est un équipement photorésistant de pointe conçu pour l'exposition lumineuse de précision. Ce système est spécifiquement conçu pour répondre aux exigences des procédés avancés de fabrication de microcircuit. Ses caractéristiques comprennent un alignement de masque d'image de haute précision, un positionnement manuel précis, une source de rayons X puissante et une capacité d'imagerie haute résolution. DMC SA/3m produit des images fortes et cohérentes grâce à son unité d'alignement de masques à fibres optiques motorisées à trois axes. Cette machine lui permet d'aligner précisément la position d'imagerie et de localiser avec précision le cadre de guidage d'alignement sur le masque. Sa source haute puissance est également capable de fournir une lumière de haute intensité sous de multiples angles, assurant un éclairage cohérent sur une seule surface. DMC SA/3m est très précis dans son positionnement. Il est capable de placer et de mesurer avec précision la position exacte du masque pour chaque exposition, quelle que soit la taille du masque. Sa source de rayons X peut être ajustée pour fournir des expositions multiples pour créer des images plus complexes. Son outil d'imagerie ultra haute résolution est également capable de capturer des informations jusqu'à une résolution de 5,2 nanomètres. En plus de ses capacités de reproduction d'images, DMC SA/3m est également capable de réaliser des revêtements et de développer l'intégration de processus. Son atout de revêtement intégral est conçu pour assurer une résolution d'image cohérente sur l'ensemble du substrat. Son intégration de processus permet une imagerie très sensible sur de grandes surfaces. Ce modèle peut également être utilisé en combinaison avec d'autres technologies de substrat telles que la gravure, le dépôt et la lithographie. Dans l'ensemble, DMC SA/3m est un équipement sophistiqué à base de photorésistance pour des applications exigeantes de fabrication de microcircuit. Il offre un positionnement d'image précis, un alignement de masque motorisé multi-axes et des sources de rayons X puissantes. Ses capacités d'imagerie sont d'une haute résolution et le système peut être utilisé en combinaison avec d'autres technologies de substrat. Ainsi, DMC SA/3m est une solution idéale pour ceux qui ont besoin de précision et de précision dans leurs processus d'imagerie et de fabrication.
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