Occasion DNS / DAINIPPON 200W #293797341 à vendre en France

Fabricant
DNS / DAINIPPON
Modèle
200W
ID: 293797341
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
Coater / Developer system, 8" Spin Coater (SC): Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW) PEEK Spin chuck Resist nozzle scan speed: 25-85 mm/s Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min Edge cleaner nozzle Back rinse dispense flow: 50 mL/min Cup material: PP, PPS SUS304 Exhaust material Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense Spin Coater (SC) / T-ARC: Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW) PEEK Spin chuck T-ARC Nozzle scan speed: 25-85 mm/s Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min Edge cleaner nozzle Back rinse dispense flow: 50 mL/min Cup material: PP, PPS SUS304 Exhaust material Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense Spin developer: Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW) PEEK Spin chuck Nozzle scan speed: 25-100 mm/s Nozzle cleaning dispense flow: Maximum 1 L/min Pure water rinse dipense flow: Maximum 2 L/min Back rinse dispense output: 4 Line Cup material: PP, SUS304 Exhaust material Drain: Liquid-vapor separation Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense UV Wafer Edge Exposure unit (EE): Vacuum sensor Image sensor detector Source: 200 W, HG - Xe lamp Illumination limit control: Feedback auto-control Indexer: Built-in SMIF ASYST INX 2200 Indexer Wafer detector Cassette defector POD Detector 1999 vintage.
DNS/DAINIPPON 200W est un équipement de micropatterning chimique développé par DNS Screen Manufacturing Co., Ltd. C'est un système de photorésist qui permet la production de motifs de haute résolution et complexes. L'unité comprend une combinaison unique de capacités de coupe et de poêlage précises, et offre une précision et une facilité d'utilisation supérieures. La photorésistance DNS 200W est basée sur deux systèmes de base. Le premier outil est l'actif photorésist, qui permet la réalisation de petits motifs à haute résolution sur le substrat. Ce modèle utilise une combinaison de procédés de gravure ionique réactive (RIE) et de photolithographie pour déposer des couches minces de photorésistes sur le substrat. Les couches minces de photorésist sont sélectivement exposées à la lumière UV, ce qui déclenche alors les réactions photochimiques. Il en résulte le dépôt d'un motif de photorésist sur le substrat, qui peut alors être sélectivement transféré sous une forme désirée. Le deuxième équipement est le système d'ablation laser DAINIPPON 200W, qui permet de réaliser des découpes et des motifs précis à la surface des substrats. L'unité fonctionne en dirigeant un faisceau laser vers la zone souhaitée sur le substrat. Lorsque le faisceau laser contacte le substrat, il provoque la vaporisation et l'évaporation des matériaux, ce qui conduit à une découpe ou un motif précis. Ce processus est très précis et répétable, et peut être utilisé pour produire des réseaux complexes de caractéristiques. Les deux systèmes sont combinés dans 200W machine pour produire des substrats micropatterned. L'outil de photorésistance est utilisé pour préparer un film de photorésist sur le substrat, qui est ensuite exposé au faisceau laser pour réaliser un motif conforme. Un motif très précis et reproductible est obtenu grâce à un contrôle précis du film photorésist et du faisceau laser. La combinaison de ces procédés conduit à la production de composants de dispositifs micropatterned qui sont très précis et faciles à utiliser. L'actif photorésist DNS/DAINIPPON 200W est largement utilisé pour des applications telles que les réseaux de transistors à couches minces, les circuits intégrés, les cellules solaires et les capteurs. Ce modèle offre une excellente précision et répétabilité de l'appareil, ce qui le rend idéal pour diverses applications. En outre, l'équipement est également facile à utiliser et est très rentable, ce qui en fait une option attrayante pour de nombreuses entreprises.
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