Occasion DNS / DAINIPPON 4-SC-80BW-AVE #293655891 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 4-SC-80BW-AVE Photoresist Equipment est une technologie de photorésistance à tonalité négative. Il s'agit d'un système conçu pour être utilisé dans des procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs, permettant la fixation de couches sur des substrats photorésistants. Le nom de l'unité fait référence aux dimensions de la machine, qui est quatre par huit centimètres et est fabriqué par DNS. Cet outil de photorésistance est adapté à une large gamme de procédés de fabrication de semi-conducteurs, y compris le dépôt de couches épaisses, la gravure de couches minces, la lithographie, le dépôt de diélectriques, et d'autres opérations de ce type. L'actif comprend un agent de contrôle du poids moléculaire de grade monomère et un revêtement antireflet, qui permet d'améliorer les capacités et l'imagerie photorésiste soustractive. Ceci permet de réaliser de petites caractéristiques telles que des lignes de 0,1 micron sur différents substrats. Le modèle est également conçu pour minimiser la réflexion, ce qui permet une résistivité inégale entre les couches et une meilleure précision entre les motifs. L'équipement nécessite l'utilisation d'un film de remède thermique, car il s'agit d'une résistance négative. Ce film est appliqué sur le substrat avant l'imagerie de la résine photosensible. Le film protège le substrat de la chaleur pendant le processus d'imagerie, empêche la migration et présente également l'avantage d'une gravure améliorée. Une fois la photorésist imagée, le substrat peut alors être exposé à des procédés photoniques ou ioniques. Le film de remède thermique est également conçu pour assurer le retrait de la résine sans affecter le circuit sous-jacent et ses composants. Ceci est réalisé par l'utilisation d'un procédé de biseautage, qui conduit à une meilleure résilience même sur les surfaces courbes. En outre, le système dispose également de technologies telles que l'exposition aux UV profonds, qui sont utilisés pour améliorer la précision et la résolution des caractéristiques décrites. En fin de compte, DNS 4-SC-80BW-AVE Photoresist Unit est une solution idéale pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs, en particulier lors de la fixation de couches sur des substrats photorésistants. La machine est équipée d'un agent de contrôle du poids moléculaire de grade monomère et d'un revêtement antireflet, ce qui permet de produire avec précision de petites caractéristiques telles que des raies de 0,1 micron. L'outil comprend également un film de remède thermique et des technologies de contrôle de l'exposition aux UV profonds, qui protègent le substrat et assurent une meilleure résistance à l'élimination.