Occasion DNS / DAINIPPON 60 #9271552 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 60 est un équipement de photorésistance qui utilise des solutions alcalines aqueuses et est conçu pour fournir une grande sensibilité à la lumière ultraviolette. Ce système fonctionne en gravant des couches minces de film micro-mince pour créer un photomasque qui permet un contrôle lithographique précis. Pour commencer, le motif désiré est aligné avec un substrat de silice fondue. Ensuite, on ajoute sur le substrat une deuxième couche de silice fondue avec une couche planarisante, qui la prépare à l'imagerie à plus haute résolution. Les couches combinées sont ensuite exposées à la lumière UV qui crée un photomasque. La lumière est ensuite rapidement filtrée et les zones non exposées sont gravées pour créer le motif désiré. Ensuite, des films de photorésist sont appliqués sur le substrat. Les films peuvent être formés en couches uniformes ou être réalisés pour des propriétés souhaitées telles que la résistance chimique. Les films de photorésist sont ensuite exposés à une résine durcissable aux UV, et les zones restantes non exposées sont gravées. La résine UV-curable restante est ensuite enlevée pour créer un photomasque final qui peut être utilisé pour une variété d'applications lithographiques. Ce procédé produit des photomasques avec une résolution extrêmement fine par rapport à d'autres photomasques, ce qui le rend apte à être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. La résolution que l'unité est en mesure d'atteindre permet la création de formes complexes qui sont incroyablement précises. De plus, sa fonctionnalité de solution alcaline permet un traitement plus rapide et une énergie d'activation plus faible que les autres photomasques. La machine offre également une bonne protection de l'environnement grâce à sa capacité à produire des photomasques qui sont à la fois anti-rayonnement et anti-contamination. L'outil photorésist DNS 60 est un atout fiable, robuste et fiable qui peut être utilisé pour diverses applications lithographiques. Sa polyvalence, sa précision et ses capacités de solution alcaline en font un choix populaire pour de nombreuses entreprises à la recherche d'un moyen rentable et efficace de produire rapidement des photomasques pour un large éventail d'objectifs.