Occasion DNS / DAINIPPON 60A #9162931 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 60A est un équipement de développement de solutions chimiques qui utilise la technologie photorésist pour produire des modèles de précision sur les cartes et composants de PCB. La technologie photorésist permet la formation d'images numériques complexes de haute densité sur de très petites poches du motif en contrôlant les motifs avec la lumière. Cette technologie est utilisée pour diverses applications dans les secteurs de l'électronique, de l'automobile, des télécommunications et de l'aérospatiale. Le mécanisme de base de la technologie photorésist consiste à recouvrir la surface de la planche ou du composant d'une solution chimique, dite photorésist, qui réagit lorsqu'elle est exposée aux ultraviolets (UV) ou à la lumière visible. En exposant sélectivement la photorésist à la lumière et à l'ombre sur le motif désiré, la photorésist durcit ou est enlevée selon le type de photorésist utilisé. Lorsque la résine photosensible est retirée des zones exposées à la lumière, le motif de la résine photosensible sera gravé en permanence dans la carte ou le composant. Le DNS 60A est adapté aux applications nécessitant la plus haute résolution et la plus grande précision. Il présente une concentration améliorée de photorésist, ce qui conduit à un motif très précis inférieur à 1 micron. En outre, le système fonctionne avec une unité de livraison très développée, produisant un revêtement très uniforme de la solution de résine photosensible sur de petites surfaces. D'autres caractéristiques comprennent la capacité de supporter plusieurs couches, la répétabilité précise sur des couches consécutives, le contrôle amélioré des processus et le contrôle amélioré de l'environnement. Dans l'ensemble, DAINIPPON 60A est une machine photorésistante de pointe, conçue pour la précision sur de petites surfaces. L'outil offre une plus grande résolution, précision et précision que les autres systèmes de photorésistance, ce qui le rend particulièrement adapté aux modèles complexes utilisés dans l'aérospatiale, les télécommunications et d'autres industries de haute technologie. En utilisant un revêtement très uniforme de la solution de photorésist et un processus multicouche, l'Actif permet également un processus de production rapide.