Occasion DNS / DAINIPPON 629 #9218807 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 629 est un photorésist proche des UV, sans chrome, à tonalité positive, conçu spécifiquement pour les procédés lithographiques. C'est un photorésist à base aqueuse, proche des UV, qui fournit une résolution plus élevée en photolithographie que les développeurs organiques traditionnels. Le composant principal de la résine est la polyvinylpyrrolidone (PVP), un polymère utilisé pour améliorer la solubilité aqueuse. Il contient également un photo-initiateur, un catalyseur qui permet aux autres composants de se dégrader plus rapidement lors de la photo-exposition. En outre, il contient un générateur d'acide, tel que l'acide maléique, qui agit comme agent tampon. La résine présente également un composant alcalin tel que la soude ou la potasse, ce qui contribue à réduire la tension superficielle de la résine pour favoriser l'adhésion au substrat. En outre, la résine présente un catalyseur, tel qu'une amine tertiaire, qui permet le développement post-exposition lors de l'exposition à la lumière proche des UV. La clé du succès de l'équipement photorésist DNS 629 est son adhésion supérieure aux substrats non conducteurs. Il est également résistant aux hautes températures et aux rayonnements, ce qui le rend apte à être utilisé avec des procédés à haute température et en présence de faisceaux d'électrons (EB). La résistance est un ton négatif, ce qui signifie que les parties non exposées de la résistance sont dissoutes par le développeur lors du développement. Les parties exposées restent cependant en grande partie intactes, d'où un motif prêt pour le dépôt de la métallisation désirée. La résine peut également protéger la surface du substrat lors des procédés de gravure. La principale utilisation pour le système photorésist DAINIPPON 629 est dans la fabrication de dispositifs microélectroniques et optoélectroniques. Il peut également être utilisé dans la fabrication de photomasques, la fabrication de circuits intégrés et d'autres procédés de lithographie haute résolution. L'unité est également capable d'adresser des géométries faibles et élevées, et peut être utilisée pour différents types de substrats. 629 photorésist machine est un outil puissant pour la fabrication de dispositifs, et fournit d'excellentes performances dans les processus de lithographie. Sa durabilité, son excellente adhérence aux substrats non conducteurs et sa résistance aux hautes températures et aux rayonnements en font un choix approprié pour les procédés à forte intensité lithographique.