Occasion DNS / DAINIPPON 629 #9220518 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 629 est un système de photorésist négatif, couramment utilisé en photolithographie pour la fabrication de puces semi-conductrices. Un matériau photosensible appelé photorésist est enrobé sur la plaquette puis le motif désiré est exposé à travers un masque avec une source lumineuse intense. Les zones exposées à la lumière subiront un changement chimique, les rendant insolubles dans une solution en développement, tandis que les zones non exposées resteront solubles et seront lavées. Ceci permet de créer une couche avec le motif désiré, qui peut alors soit être utilisée directement s'il s'agit du produit final, soit servir de modèle pour graver le dessin dans la couche ci-dessous. DNS 629 est une variation avancée des systèmes de photorésistance négative, utilisant un matériau propriétaire pour créer des densités plus élevées de motifs, avec des structures fines complexes, et avec une plus grande fiabilité et précision. Le matériau a amélioré la capacité de résolution - aussi mince que 0,5 microns - ainsi que d'améliorer la sensibilité et la précision par rapport à d'autres matériaux photorésistants. L'extrême finesse de sa ligne et la précision de sa résolution font du système DAINIPPON 629 un choix privilégié pour un certain nombre de processus, en particulier lors de la création de modèles à petite échelle ou très détaillés. Les applications les plus courantes sont les puces semi-conductrices, les disques de film mince et les têtes d'enregistrement magnétique. La technologie nécessite une combinaison de sources lumineuses présentant certaines caractéristiques - telles que l'intensité lumineuse, le temps d'exposition et la longueur d'onde - afin de garantir des résultats optimaux de l'exposition. Lorsque la source lumineuse est correcte, la résine photosensible réagit correctement. Une fois le processus de photolithographie terminé, la plaquette est prête pour un traitement ultérieur. La plaquette finale contient un négatif de tout le design imprimé dans le masque. Ce dessin négatif peut alors être gravé ou autrement traité afin de créer le motif de produit réel, ou le motif peut être utilisé directement. Dans l'ensemble, 629 système fournit une photolithographie fiable pour la production de puces semi-conductrices en raison de sa grande précision et sensibilité. Cela en fait un choix populaire dans l'industrie des micropuces, en particulier pour la création de modèles très petits ou complexes.