Occasion DNS / DAINIPPON 629 #9226102 à vendre en France

DNS / DAINIPPON 629
Fabricant
DNS / DAINIPPON
Modèle
629
ID: 9226102
Taille de la plaquette: 6"
Coater / Developer system, 6".
L'équipement photorésist DNS/DAINIPPON 629 est un type particulier de produit chimique utilisé dans le processus de lithographie de la photolithographie pour réaliser des circuits intégrés. C'est une solution avancée pour créer des motifs complexes tels que ceux trouvés dans les composants microélectroniques haute densité. Le système consiste en une combinaison de molécules sensibles à la lumière et de capacités d'imagerie à haute résolution qui lui permettent de produire des propriétés complexes avec des niveaux élevés de précision et de répétabilité. En photolithographie, la substance chimique dite photorésist est appliquée à la surface de la plaquette. Lorsque de l'énergie lumineuse est appliquée à la surface de la plaquette, la photorésist réagit en formant des liaisons chimiques et en libérant des polymères qui agissent comme un masque, permettant de créer le motif désiré. L'unité photorésist DNS 629 permet aux utilisateurs de créer des motifs complexes avec moins d'étapes, et avec un degré de précision et de répétabilité plus élevé que les photorésistes traditionnels. La machine est conçue pour maximiser la précision et éliminer la nécessité d'étapes de gravure supplémentaires. Ceci est réalisé en utilisant un processus d'imagerie unique qui utilise des techniques optiques avancées et l'informatique avancée pour créer des motifs sur la plaquette en une seule étape. Tout d'abord, un faisceau lumineux est focalisé sur la plaquette à l'aide d'un miroir concave. Ce faisceau lumineux est ensuite réfléchi à travers une lentille réglable et sur la plaquette pour le modeler avec précision. L'outil d'imagerie effectue alors une série de calculs pour ajuster avec précision le faisceau lumineux afin d'obtenir les motifs souhaités sur la plaquette. L'actif propriétaire offre également un certain nombre d'autres caractéristiques et avantages. Par exemple, il peut être utilisé pour modeler des tailles jusqu'à 10 nanomètres en une seule opération. Cette aptitude le rend particulièrement utile pour la création de composants à haute résolution, tels que des semi-conducteurs et des transistors. En outre, le modèle est conçu pour être compatible avec une variété de produits chimiques, permettant aux utilisateurs de choisir le matériau le plus approprié pour leur application. Dans l'ensemble, l'équipement photorésist DAINIPPON 629 offre des capacités de mise en forme supérieures et des capacités d'imagerie haute résolution, ce qui en fait un outil puissant pour créer des composants haute densité pour une technologie améliorée. Sa précision, sa répétabilité et sa compatibilité en font une solution idéale pour des applications complexes.
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