Occasion DNS / DAINIPPON 629 #9276179 à vendre en France

DNS / DAINIPPON 629
Fabricant
DNS / DAINIPPON
Modèle
629
ID: 9276179
Taille de la plaquette: 6"
Developer system, 6" Loader / Unloader, 6" Step motor driving system Individual unit control I/H Unit, 6" Wafer handling arm material: SUS304 Wafer moving method: Arm with vacuum Digital wafer sensor Step motor driving system Developer spin unit, 6" Develop type: Rotation spray with spin motor Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization Wafer chuck size, 70 mm Spin cup Polypropylene resin: Upper: 8" Lower Nozzle type: Spray nozzle Exhaust control system: Manometer Spin cover: Transparent acrylic Maximum spin motor: 6000 RPM Waste liquid drain: Natural drain Wafer moving: Step motor Utilities: Power supply: AC, 110 V, 30 A, 1 Phase AC, 220 V, 30 A, 1 Phase Air pressure: 4 ~ 5 Kg/Cm² N2 Pressure: 3 ~ 4Kg/Cm Vacuum pressure: 60~70 CmHg Spin exhaust: 100 mm (20 mmHg).
L'équipement photorésist DNS/DAINIPPON 629 est un type unique de système de photolithographie conçu pour la fabrication et le traitement électronique de substrat. Cette unité est capable de produire des caractéristiques à haute résolution avec une excellente précision de processus et répétabilité. La machine est largement utilisée dans de nombreuses industries, y compris la fabrication de divers composants électroniques. L'outil photorésist DNS 629 se compose de plusieurs composants. Il a un aligneur de masque de type réflexion équipé de deux canaux optiques, permettant des expositions sur de larges surfaces. L'actif comprend également un modèle de manipulation automatisée du masque, capable d'échanger automatiquement des masques et de régler les positions du masque avant l'exposition. Un équipement de gestion de l'énergie est également intégré au système, permettant aux utilisateurs de gérer avec précision les temps d'exposition. Cette unité de photorésistance est conçue pour supporter à la fois les photorésistes positifs et négatifs, permettant aux utilisateurs d'obtenir les résultats souhaités. La machine comprend une résolution allant jusqu'à 0,25 µm et un stepper qui permet aux utilisateurs d'exposer jusqu'à 4 substrats de 4 pouces avec une intensité lumineuse d'exposition contrôlable et uniforme. Le stepper fournit également un contrôle de focalisation réglable, permettant aux utilisateurs de focaliser le substrat dans l'outil. L'actif DAINIPPON 629 comprend une unité de développement/décapage qui permet aux développeurs de développer des motifs de photorésist dans les fonctionnalités souhaitées et de graver le substrat si nécessaire. Plusieurs autres unités, telles qu'une unité de photodiode et l'alignement du faisceau, sont également intégrées au modèle, ce qui rend l'équipement hautement automatisé et efficace. En outre, ce système est conçu pour être convivial avec une interface de programmation intuitive qui facilite la programmation de l'unité et fournit à l'utilisateur une surveillance et un contrôle numériques des paramètres de la machine. Il dispose également d'un outil de contrôle thermique avancé qui fournit un contrôle de température avancé pour des applications précises. Dans l'ensemble, 629 atout offre une haute performance, précision et répétabilité, et une large gamme de fonctionnalités. Il est adapté à une variété d'applications à base de photorésist, ce qui en fait un choix idéal pour les utilisateurs intéressés à augmenter la qualité des produits et à minimiser les coûts de production.
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