Occasion DNS / DAINIPPON 629 #9285138 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 629 est un équipement photorésist à haute résolution à action positive développé par DNS Screen. Cette résistance photo-active est basée sur une résine novolaque classique. Ce système est largement utilisé dans les procédés semi-conducteurs, tels que les trous de contact à haut rapport d'aspect, les tranchées et les vias ; créer des caractéristiques de densité gigabit pour ULSI ; et former des micro-trous pour la fabrication de substrats unitaires. La machine est proposée avec deux choix de solvants polaires tels que le propylène glycol monométhyléther acétate (PGMEA) et le propylène glycol monométhyléther (PGME). L'outil fournit également une large gamme d'expositions aux rayonnements, y compris les UV profonds (DUV), laser ArF, i-line, G-line, et i-line masquage avec une capacité de haute résolution et un retrait uniforme. Il a une sensibilité élevée qui permet une exposition facile, produit des structures de ligne et d'espace (L/S) uniformes, et présente d'excellentes propriétés de film telles que l'adhérence et la rugosité des bords de ligne (LER). Cet atout de résistance présente également une résistance minimale à la sous-coupe agressive pendant le processus CMP, ce qui le rend idéal pour les trous de contact multi-niveaux, tranchées et via les processus. Les développeurs alcalins améliorés du modèle de résistance permettent un processus de gravure plus efficace. Le film photorésist DNS 629 a une bonne résistance à la gravure humide pour obtenir des trous de contact à haut rapport d'aspect (HAR). Le film de résine peut également être développé pour obtenir des profils de flanc plus propres avec un profil d'amplitude CA de faible angle, c'est-à-dire faible niveau d'oxyde sous-jacent. L'équipement offre également une excellente stabilité thermique, ce qui le rend adapté à des processus à haute température tels que la pulvérisation métallique, le refoulement et la soudure. De plus, le système DAINIPPON 629 possède une bonne solubilité dans les solvants organiques, ce qui permet une application facile et une bonne adhérence avec une faible distance d'une surface de bosse ou multi-niveaux à la surface du substrat. Enfin, 629 photorésistants présentent une excellente reproductibilité et sont considérés comme sans danger pour l'environnement, conformément aux normes de sécurité du SMIC, de l'UMC et de l'IMEC. En général, cette machine de résistance offre une excellente performance de photolithographie pour les applications avancées de conditionnement et de processus semi-conducteurs.