Occasion DNS / DAINIPPON 80 A / 80 B #9161502 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80 A/80 B est un équipement de photorésistance développé par DNS Screen Manufacturing Co. Ltd. et est utilisé comme matériau photorésistant pour la lithographie, principalement pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs en silicium. Le système est composé d'un film photorésistant et d'une solution de développement, et est conçu pour fournir une haute résolution, faible coût, et l'intégrité du processus pour améliorer les performances lithographiques. Le film de photorésist est constitué d'un matériau polymérique sous forme de suspension dans un solvant organique, typiquement le méthanol. Il contient un photosensibilisant anionique, un composé photoactif et un catalyseur acide modifiable thermiquement. Lorsqu'elles sont exposées à la lumière, les molécules photosensibilisées réarrangent leur forme pour former une molécule catalytique acide, ce qui à son tour catalyse la libération d'un radical polymérisant qui provoque le durcissement du matériau polymérique et forme une structure de résistance. La solution révélatrice est une solution aqueuse diluée à base d'ammoniac contenant un catalyseur de base et un matériau polymérique aqueux de type thiol. Cette solution agit comme agent désacidifiant, ce qui neutralise et dissout la structure de résine formée lorsque le film photorésiste est exposé à la lumière. Ceci permet un contrôle plus précis de la couche photorésistante exposée. La combinaison de ces composants offre à l'unité des avantages uniques pour les procédés lithographiques. Tout d'abord, le matériau polymérique utilisé dans le film photorésiste fournit une imagerie haute résolution, permettant l'utilisation de la machine pour une large gamme de tailles et d'applications de plaquettes. Deuxièmement, la solution du développeur est très stable et tend à assurer l'intégrité du processus à long terme, avec une sensibilité minimale à la dégradation due à la contamination ou à l'âge. Enfin, l'outil est relativement peu coûteux, ce qui en fait une option attrayante pour les procédés de lithographie peu coûteux. Dans l'ensemble, l'actif photorésist DNS 80 A/80 B fournit un matériau lithographique à haute résolution, à faible coût et axé sur l'intégrité des procédés pour une large gamme d'applications de fabrication de semi-conducteurs. Grâce à ses excellentes caractéristiques d'imagerie et de stabilité, le modèle est très adapté à une variété de processus, des puces intégrées à grande échelle aux circuits intégrés à petite échelle, et des puces mémoire à la conception de noeuds logiques.