Occasion DNS / DAINIPPON 80A #293808655 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80A est un équipement photoréducteur pour le développement et la fabrication d'outils optiques. Elle est utilisée dans diverses applications telles que la réalisation d'échantillons de masques optiques, de photomasques, de réticules, de SEM (microscope électronique à balayage), etc. Le système comprend une unité d'exposition laser de 80 watts, un développeur et le matériau photorésist (DNS 80A). L'unité d'exposition utilise un laser de 80 watts pour contrôler avec précision l'intensité de la lumière utilisée pour exposer le matériau photorésist. Cette exposition précise est nécessaire pour que des films d'épaisseurs différentes puissent être développés de manière fiable et avec un rendement élevé. L'unité d'exposition dispose d'un réglage précis de la puissance laser, de la durée d'exposition et de l'intensité lumineuse pour créer des films de forme et d'épaisseur très précises. Le révélateur inclus dans l'unité contrôle précisément la vitesse de diffusion du matériau photorésist pour que les films adhèrent correctement aux substrats. Ceci est réalisé en introduisant dans le substrat une solution aqueuse d'un matériau alcalin, tel que de la soude, et en la diffusant dans le matériau photorésiste. Le matériau photorésist utilisé dans la machine, DAINIPPON 80A, est un matériau photorésist en deux parties constitué d'un acrylate de polyamidoamine et d'une résine de triazine. L'acrylate de polyamidoamine apporte rigidité et résistance aux UV, tandis que la résine triazine ajoute souplesse et propriétés d'adhésion. La combinaison de ces matériaux fonctionne ensemble pour créer des films de haute absorbance et qui sont très résistants à l'abrasion, le brossage et la gravure. Dans l'ensemble, 80A outil photoréaliste est un atout avancé et précis qui fournit un contrôle précis dans le développement et la fabrication d'outils optiques. La combinaison du laser de 80 watts, du développeur et de la qualité du matériau photorésist le rend hautement adapté à la production de masques optiques, photomasques, réticules, échantillons SEM, etc. avec des résultats sans faille.