Occasion DNS / DAINIPPON 80A #293831505 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80A est un équipement de photorésistance à haute performance et soluble dans l'eau conçu pour la fabrication de microélectroniques de haute précision et à haut volume. Le système se compose d'un développeur, d'une résistance exposée, d'un graveur et d'une solution de bande. Le révélateur est une solution à base d'eau d'isopropylalcool, de chlorure de sodium et d'hydroxyde de potassium, et est utilisé pour graver les parties non exposées de la résine photosensible. La résine exposée est un film mince, transparent, sensible à la lumière, composé de polyméthacrylate de méthyle (PMMA), sensible à la lumière dans le spectre visible et ultraviolet. L'agent d'attaque est une solution aqueuse diluée d'acide sulfurique, de nitrate de sodium et d'acide nitrique, utilisée pour la gravure de la résine photosensible exposée. Enfin, la solution de bande est composée de chlorure de méthylène, d'hydroxyde de sodium et d'acide chlorhydrique, et est utilisée pour éliminer la résine photosensible exposée. L'unité photorésist DNS 80A offre un certain nombre d'avantages par rapport à d'autres photorésists, tels qu'une haute résolution, une excellente netteté de bord, et une mauvaise enregistrement de gravure faible. En outre, la machine fournit une impression fiable avec différents types de photomasques. Les feuilles de photorésist utilisées dans cet outil ont une épaisseur plus faible que celles utilisées dans d'autres photorésists, ce qui signifie qu'elles peuvent être ajustées plus précisément aux dimensions exactes du circuit ou composant requis. De plus, l'actif permet une cuisson post-exposition à des températures d'environ 140 ° C pour une meilleure adhérence de surface et des résultats de gravure. Par rapport à d'autres photorésistes, le modèle DAINIPPON 80A réduit les coûts de traitement et le temps de fabrication. En effet, l'équipement nécessite moins de temps pour les générations de films minces de résistance et est donc plus rentable. De plus, des délais de traitement plus courts réduisent le risque de contamination des circuits ou composants, améliorant la qualité et la fiabilité des produits fabriqués. 80A système photorésist est adapté pour être utilisé dans divers procédés de fabrication, tels que le dépôt de couches minces, l'électrodéposition, la gravure et le laminage. Il peut également être utilisé sur des substrats rigides et flexibles, ce qui en fait un outil de fabrication polyvalent. L'unité est également fiable à diverses températures et humidités, ce qui signifie qu'elle peut être utilisée dans des conditions extrêmes. Enfin, il est capable de résister à une variété de produits chimiques, ce qui le rend idéal pour des applications industrielles.