Occasion DNS / DAINIPPON 80A #9133638 à vendre en France
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Vendu
ID: 9133638
Scrubber
Top side spin
(1) Brush scrub
Brush material: Mohair brush or PVA brush
Brush contact distance: +1mm to -5mm max from wafer surface (adjustable at unit of 0.01mm)
Brush revolutions: 440 rpm/60Hz, 380 rpm/50Hz (allowance of revolutions: ±10% max), non-rotation also settable
Brush cleaning function: DI water washing at the brush standby zone by straight nozzle
(1) Nano spray nozzle scrub
Nozzle scanning scrub by high pressure DI water/N2
Nano nozzle angle: Approx 90 deg. to wafer surface
(1) Nano nozzle
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
(1) DI water rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml/min
(1) Back rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 200 ml /min
(1) Brush cleaning
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml /min
Back Side Spin Scrubber Specification:
(1) Brush scrub
Brush: 0.1mm Nylon or PVA brush
Brush contact distance: +1mm to -5mm max from wafer surface(adjustable at unit of 0.01mm)
Brush revolutions: 440 rpm/60Hz, 380 rpm/50Hz (allowance of revolutions: ±10% max), non-rotation also settable
Brush cleaning function: DI water washing at the brush standby zone by straight nozzle
(1) D-sonic nozzle
Nozzle scanning scrub by D-sonic DI water
Nozzle material: PP,PFA,PVDF
Nozzle angle: Approx 90 deg. to wafer surface
(1) D-sonic DI water nozzle
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
(1) DI water rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml/min
(1) Back rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 500 ml /min
(1) Brush cleaning
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml /min
Spin motor specifications (Top Side Unit):
Motor: brushless servo motor
Revolution: 0 rpm to 4000rpm
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Max. acceleration: 50000 rpm/s
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Accuracy: ±1.5 rpm
Max. revolutions: 9990 rpm(motor individual)
Spin Motor Specification:(Back Side Unit)
Motor: brushless servo motor
Chuck pin : PEEK
Revolution: 0 rpm to 6000 rpm
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Max. acceleration: 1000 rpm/s
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Accuracy: ±1.5 rpm
Max. revolutions: 9990 rpm(motor individual)
Chuck positioning mechanism: driven by spin motor
D-Sonic nozzle specifications:
Ultrasonic output: Max 48 W (1.5 MHz)
Output current: 0.3 to 0.9A
DI water flow rate: 0.6 to 1.0 L/min (variable by needle)
Other specifications:
(1) DI water
(1) N2
(1) Vacuum
(1) Dry Air
(2) Spin exhausts.
DNS/DAINIPPON 80A est un équipement de photorésistance utilisé dans le processus de fabrication de puces pour divers composants de circuits intégrés. Il s'agit d'une plate-forme unique et autonome qui fournit la résistance cristalline liquide à la chimie, l'optique d'exposition et les étapes de traitement post-exposition qui sont critiques pour le processus de production de circuits intégrés à semi-conducteurs de haute performance et à haut rendement. Le système comprend une lampe à arc de mercure, fournissant une sortie de ligne de néon-argon élevée, pour une exposition jumelle simple ou verticale. L'ensemble optique vide contient un intégrateur de vide, une lentille condenseur à foyer réglable avec un espaceur à espacement variable, un verre polarisé et un diaphragme iris. L'ensemble optique contient également un indicateur d'indication « étincelle » qui peut être utilisé pour observer la décharge d'arc à travers la lentille du condenseur dépoli. La chimie de résistance utilise une solution de base aqueuse et dispose d'une capacité de cuisson sans softbake. Ceci permet d'éliminer une étape de développement intermédiaire, ce qui augmente le débit. La chimie de la résistance présente également des corrections actives pour les effets de la température, de l'humidité et de l'exposition à la lumière. L'unité contient également un module de traitement post-exposition ou PET qui est conçu pour optimiser les performances de la machine. Ce module contient une source d'énergie infrarouge et un filtre à plasma. Le filtre à plasma réduit la défectivité des couches de résistance exposées tandis que la source d'énergie IR accélère le processus de durcissement, ce qui contribue à réduire le temps de développement. L'outil peut être personnalisé pour des exigences d'application spécifiques en utilisant des composants PET supplémentaires. DNS 80A photoresist actif est un modèle entièrement automatisé conçu pour être utilisé dans un équipement de lithographie pour la production de circuits intégrés à semi-conducteurs de haute performance et à haut rendement. Il a été conçu avec les dernières technologies en optique et résiste à la technologie de la chimie pour optimiser le débit et le rendement, tout en offrant la flexibilité qui est essentielle pour un processus réussi.
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