Occasion DNS / DAINIPPON 80A #9162944 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80A est un équipement avancé de photorésistance en film sec spécialement conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système utilise un substrat en PVC qui a été pré-revêtu d'une fine couche de résine puis durci. Cette couche de résine durcie est sensible au rayonnement ultraviolet ou au faisceau d'électrons et sert de masque efficace pour la photolithographie. La résistance de la couche peut être facilement adaptée aux besoins spécifiques des clients et offre une rugosité supérieure par rapport à d'autres systèmes similaires. Il permet également une imagerie haute résolution sur des motifs de câblage mince avec des avantages significatifs pendant le processus d'application de film sec. Le mode d'application de la résine est également relativement simple, car disponible en feuilles, minimisant ainsi les processus nécessaires avant photolithographie. De plus, l'unité élimine les éventuels problèmes dus à l'utilisation de photorésists à base de solvant, tels que la résistance au brouillard et au rebord, ce qui peut entraîner une diminution de la qualité du dispositif semi-conducteur final en raison d'une mauvaise exposition. De plus, l'application de ce matériau conduit à un taux de gravure significativement plus rapide que les solvants classiques. Ceci conduit à un meilleur contrôle de la vitesse de gravure, permettant la réalisation de dispositifs supérieurs. La machine est en outre aidée par certaines des caractéristiques du porte-fluorosilane qui est utilisé comme solvant porteur pour la résine. Le porteur fluorosilane interagit avec les molécules de résistance, réduisant leur rigidité et augmentant leur adhérence tout en agissant comme barrière contre l'attaque par gravure ionique réactive. Cette caractéristique est particulièrement souhaitable lorsque l'on travaille avec des structures à motifs très complexes. L'outil possède également des propriétés de résistance à la chaleur supérieures, ce qui le rend adapté à une utilisation dans des environnements à haute température. En outre, elle présente l'avantage supplémentaire d'être l'une des plus économiques des systèmes de films secs disponibles, ce qui en fait un choix viable pour de nombreux types de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. En résumé, le DNS 80A est un actif de photorésistance de film sec de pointe idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs en raison de sa rugosité supérieure au bord de ligne, de sa résolution accrue et de ses fonctions de contrôle de vitesse de gravure. Le porteur fluorosilane du modèle offre une adhérence et une résistance accrues contre la gravure ionique réactive, tandis que sa résistance à la chaleur accrue le rend adapté aux environnements à haute température. En outre, son prix économique en fait une option attrayante pour de nombreuses fabrications d'appareils.