Occasion DNS / DAINIPPON 80A #9262878 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80A est un équipement de photorésistance utilisé dans les industries des semi-conducteurs et de l'électronique. C'est un système de photorésistance avancé et performant qui fournit une résolution de précision élevée et d'excellents résultats pour une grande variété d'applications. L'unité est conçue pour être utilisée dans une variété d'applications de traitement de semi-conducteurs et d'électronique telles que la gravure et l'isolation métalliques à un seul niveau, par gravure, contrôle de profil et caractéristiques de rapport d'aspect élevé. Il est particulièrement populaire pour les applications qui nécessitent une haute résolution et un rapport d'aspect élevé gravure. La photorésist DNS 80A se compose de deux composants. Le premier composant est le produit chimique qui est un mélange de produits chimiques et un catalyseur de filtre photo. Ce mélange permet à la lumière de traverser le matériau et d'être absorbée par le produit chimique, provoquant la gravure de caractéristiques photomasques. Le deuxième composant est le masque photo qui contient les motifs qui doivent être gravés. Le masque photo est typiquement une image négative qui permet à la lumière de passer à travers, créant le motif de gravure désiré. L'outil photorésist peut être utilisé avec des techniques de traitement par voie humide et sèche. Avec un traitement humide, le produit chimique est mélangé à de l'eau puis appliqué sur le substrat. Après son application, une source lumineuse est utilisée pour exposer le motif désiré et le produit chimique se transforme sous sa forme insoluble, permettant de graver le motif dans le substrat. Par traitement à sec, le produit chimique est pulvérisé directement sur le substrat puis exposé à la source lumineuse. Cela crée le même effet qu'avec le traitement par voie humide mais évite l'étape supplémentaire de l'application de l'eau. L'actif photorésist DAINIPPON 80A fournit des résultats excellents et précis avec une large gamme de matériaux de substrat, y compris le silicium, les métaux et les polymères. Le modèle peut être utilisé avec diverses sources de lumière telles que les UV, les diodes électroluminescentes (LED) et les sources de faisceau d'ions. En outre, il est compatible avec une gamme de gravants et de solutions de décapage. L'équipement est facile à utiliser et fournit des résultats cohérents et précis à chaque fois. En outre, il est très rentable et peut être utilisé avec une variété de systèmes de photomasques existants. Le système peut également être utilisé avec une gamme d'etchants et de solvants de stripage, permettant encore plus de polyvalence. Enfin, l'unité est conçue pour être compatible avec une gamme de matériaux de substrat et pour offrir des performances de résolution et de rapport d'aspect supérieures.