Occasion DNS / DAINIPPON 80B #9196636 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80B est un équipement de photorésistance conçu pour les applications semi-conductrices. C'est un système photorésist à deux composants qui utilise un matériau photosensible - typiquement une résine acrylique - pour former un motif sur un substrat. L'unité se compose de deux composants principaux : la solution du développeur et l'unité d'exposition. La solution de révélateur est un matériau liquide ou semi-solide qui contient un matériau photosensible tel qu'une résine acrylique. L'unité d'exposition est un dispositif qui peut exposer la surface d'un substrat à une source de rayonnement - typiquement un rayonnement ultraviolet. Une fois le substrat exposé au rayonnement, la solution du révélateur lui est appliquée. La solution du révélateur réagit avec le rayonnement absorbé par le substrat, provoquant la polymérisation de la résine et formant un négatif modéré de la source de rayonnement. Le négatif modulé peut alors être utilisé comme masque pour créer un motif correspondant sur le substrat. La machine DNS 80B est capable de produire des motifs avec précision et rapidité, avec une résolution de 0,5 micron (500 nm). Il dispose d'un outil de développement automatisé qui peut exposer rapidement le substrat à la source de rayonnement puis appliquer la solution du développeur. Cela permet de réaliser le motif avec précision et rapidité. DAINIPPON 80B est également capable de produire des motifs à haute résolution sur une grande variété de substrats, y compris des films minces, des feuilles et du papier. Le modèle est également adapté à un large éventail d'applications, y compris le montage de circuits intégrés, la fabrication de dispositifs à couches minces et le montage de circuits imprimés. Dans l'ensemble, 80B matériel de photorésistance est un moyen fiable et précis de créer des substrats à motifs précis pour une grande variété d'applications. Il est extrêmement capable et adapté à une gamme d'applications de semi-conducteurs, en raison de sa haute résolution, de sa grande vitesse et de sa large compatibilité avec le substrat.