Occasion DNS / DAINIPPON 80B #9250084 à vendre en France

DNS/DAINIPPON 80B est un équipement de photorésistance à base d'eau conçu pour des applications de lithographie grand format. Le système utilise une émulsion photorésist haute résolution, qui est sensible à la lumière à une large gamme de longueurs d'onde. La résine photosensible est formulée pour produire des motifs très fins lorsqu'elle est exposée à la lumière ultraviolette. L'unité se compose d'un développeur, liant, et quatre composants photorésist solution. Le révélateur est une solution de base utilisée pour rincer tout photorésist en excès exposant la surface pour le processus d'exposition, ou pour ajouter une protection supplémentaire sans affecter le processus d'exposition. Le liant lie la résine photosensible à la surface et fournit une image durable pour la gravure et d'autres processus. La solution de photorésist est une émulsion optiquement active avec photocatalyseur, sensibilisant et stabilisants. Le photocatalyseur améliore la sensibilité à la lumière et augmente la teneur en solide, tandis que le sensibilisateur amplifie la sensibilité du photocatalyseur. Les stabilisateurs prolongent la durée de conservation et améliorent la qualité de la résistance. La machine dispose d'une fenêtre d'exposition relativement large, permettant un temps d'exposition pouvant aller jusqu'à 1,5 minute par pied carré. Cela permet une grande vitesse et la qualité de l'imagerie lithographique, qui est nécessaire pour des applications d'impression extensives. De plus, la sensibilité dynamique de l'outil permet une représentation précise d'une large gamme de couleurs. Le processus d'imagerie repose sur les propriétés uniques de chaque solution et émulsion pour fournir des résultats cohérents. En utilisant ensemble le révélateur et le liant, la couche de résine photosensible est rendue plus stable et uniforme. Cela empêche les images faibles de se développer, ce qui pourrait causer des motifs indésirables. De plus, la réaction chimique entre le sensibilisant et le photocatalyseur conduit à une représentation précise du motif désiré. Les caractéristiques alcalines de l'actif contribuent également à réduire le temps et la température nécessaires au séchage. La vitesse et la température du processus de séchage sont essentielles pour éviter les stries ou les distorsions dans le matériau. De plus, la solution non toxique à base d'eau élimine le besoin d'un certain nombre de produits chimiques dangereux et offre un environnement de travail beaucoup plus sûr. Dans l'ensemble, le modèle DNS 80B est un choix fiable et sûr pour les applications lithographiques. Sa large fenêtre d'exposition et sa sensibilité dynamique offrent une représentation d'image de haute qualité, tandis que son émulsion à base d'eau fournit un processus d'impression rapide et efficace.